Eventi
24/07/2017
Discovering Advanced AFM - Bologna 12 Ottobre 2017
In collaborazione con il CNR ISMN di Bologna, Gambetti Kenologia e la Park Systems organizzano, per il 12 ottobre pv, un pomeriggio-evento sulla Tecnololgia AFM, alla presenza del Fondatore e Presidente della Park Systems, il Dr. Sang-Il Park. Oltre ad una sua presentazione sullo stato dell´Arte, seguirà una serie di presentazioni sull´uso dell´AFM a livello di frontiera da parte di esperti del settore, per poi concludere il meeting con una tavola Rotonda aperta, dove si affronteranno i temi sull´AFM Road Map attuale. La partecipazione è gratuita. Per registrarvi ed avere maggiori informazioni consulate la pagina dedicata
17/07/2017
Processi ALD per materiali 2D: Introduzione al FlexAl 2D
Atomic layer deposition (ALD) of 2D transition metal dichalcogenides (TMDCs) for nanodevice applications
Our ALD and 2D technical specialists have teamed with the Eindhoven University of Technology research teams to realise ALD of 2D TMDCs for nanodevice applications.
The FlexAL-2D offers a number of benefits for growth of 2D materials:
2D materials growth:
-
At CMOS compatible temperatures
-
With precise digital thickness control
-
Over a large area (200mm wafers)
Robust ALD processes for 2D materials:
-
Self-limiting ALD growth
-
MoS2:
- Oxygen and carbon free (<2%)
- High growth per cycle ~0.1 nm/cycle
- Crystalline material above 300°C
Tunable morphology: Control over basal plane or edge plane orientation
-
Growth of ALD dielectrics & other ALD layers on 2D materials in one tool
- create advanced 2D device structures
-
RF substrate biasing option for film property control
12/07/2017
Nanoinnovation 2017 Roma 26-29 settembre 2017
Saremo presenti alla conferenza Nanoinovation 2017 insieme alla nostra rappresentata Park Systems, dove esporremo un AFM NX10 oltre a tenere due sessioni teoriche e pratiche sulla microscopia AFM di Park Systems.
29/06/2016
SMT30 The 30th International Conference on Surface Modification Technologies
Alla conferenza verrà installato un SEM FIB TESCAN LYRA3 GMH, è durante l�evento verranno dimostrati i risultati ottenuti nel progetto Europeo iSTRESS "Pre-standardisation of incremental FIB micro-milling for intrinsic stress evaluation at the sub-micron scale "
Per maggiori informazioni consultate il sito di SMT30
24/04/2015
GraphITA 2015
Gambetti Kenologia, parteciperà al convegno GraphITA 2015 che si terrà a Bologna dal 14 al 18 settembre 2015.
GraphITA è un workshop europeo multidisciplinare ed intersettoriale sulla sintesi, la caratterizzazione e lo sfruttamento tecnologico del grafene.
Per maggiori informazioni consultate il sito di GraphITA 2015
20/05/2014
Workshop sulla Microscopia a Scansione, ROMA 20 e 21 Maggio 2014
Aspetti teorici e applicativi della microscopia elettronica e della microanalisi (microXRF, TOF SIMS, PLASMA FIB)
Gambetti Kenologia Srl, Tescan Orsay Holding, Bruker Nano e Renishaw, sono lieti di invitarla al Workshop dedicato alla Microscopia Elettronica a Scansione (SEM) e alle relative tecniche micro e nano analitiche, che si terrà con programma identico il 20 e 21 Maggio prossimi presso Hotel Mercure EUR West di Roma.
Per maggiori informazioni ed iscriversi;
26/07/2013
Workshop at Cornell University
Latest research and technologies in plasma etch deposition and growth
Venue: Cornell, Ithaca, NY, USA
Date: 20 - 21 August 2013
Businesses Attending: Plasma Technology
Oxford Instruments Plasma Technology & Cornell University will hold a technical seminar addressing latest research and technologies in plasma etch deposition and growth.
This 1 1/2 day event is on 20th and 21st August, at Cornell University, and will include presentations, discussions, a poster session focussing on latest innovations, and a networking lunch.
Speakers are from key international research institutes, who will discuss their research, and they include:
Prof. Peter Ashburn, Southampton University, UK
Vince Genova, Cornell University
Axel Scherer , Caltech, CA
With more speakers to be announced
In addition, experts in their field from Oxford Instruments & Cornell University will speak on the latest process and applications developments in a number of plasma processing areas.
Presentations currently include:
ALD applications
An overview of Plasma ALD process
MEMS process
Dielectric Etching at the nanoscale
Fine dimension metal and metal compound etching
PECVD & ICP CVD
Information, schedule, and registration;
This event is free of charge, but registrations must be submitted [online] in advance to facilitate planning. Please register by Monday, August 12th
For any further information please contact: nancy.crouch@oxinst.com
27/02/2013
OXFORD Plasma Technology : Workshop on dry processing
Workshop on dry processing for Nanoelectronics and Micromechanics deposition and etching.
Per maggiori informazioni : Link alla lettera di invito