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22/01/2014

Sistema Nanofab Oxford Plasma Technology

Sistema Nanofab Oxford Plasma Technology, ora disponibile anche con porta-substrati riscaldabile fino a 1000°C , indicato per la crescita di Grafene.

Il sistema Nanofab è un sistema di deposizione ad elevate prestazioni , disponibile in varie configurazioni in funzione dell’applicazione richiesta, per dimensioni del campione fino a 200 mm.

Le applicazioni comprendono :

- Crescita di nanotubi e nanofili con attivazione in situ del catalizzatore( anche via Plasma) e controllo rigoroso del processo.
- Crescita di Nanotubi di Carbonio (CNT) allineati.
- Crescita di Nanofili in vari materiali, quali:  Si, Ge, ZnO, GaO, SiC, GaN, GaAs, GaP, InP, ZnS, InN.
- Immissione di precursori metallorganici per la crescita di Nanofili in Semiconduttori Composti.
- Controllo della lunghezza e del diametro dei Nanofili.
- Processi PECVD convenzionali.

Per maggiori informazioni ed esempi reali, consultare:

http://www.oxfordplasma.de/systems/Nanofab.htm