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04/07/2016

NUOVO PROCESSO DA OXFORD INSTRUMENTS

Oxford Instruments launcia il nuovo processo per la crescita di MoS2  usando il loro sistema Nanofab® per la crescita in nanoscala ad alte prestazioni

Crescita di MoS2 di alta qualità  caratterizzata e ottimizzata usando tecniche come Raman e AFM
  Deposizione usando CVD da precursori di Mo volatile e H2S usando il loro sistema di erogazione
 
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Erogazione controllata di precursori solidi/liquidi che assicura la ripetibilità dei processi
  Copertura uniforme di MoS2 2D stratificato con controllo spessori controllati
  Compatibile con erogatori di precursori per WS2, MoSe2 ed altri metalli di transizione dicalcogenuri (TMDCs)

Il processo MoS2 è l�ultima aggiunta alle librerie dei processi per materiali 2D della Oxford Instrument