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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Strumentazione e controllo di Processo / Alimentatori RF e DC - Generatori di Ozono

MKS Instruments - Alimentatori RF e DC

Alimentatori per plasmi DC

La famiglia RPDG fornisce potenza DC in modalità pulsata asimmetrica unipolare e bipolare per processi PVD(Physical Vapour Deposition), CVD(Chemical Vapour Deposition) e bias in PVD, con possibilità di miglior controllo della qualità dei rivestimenti. RPG 50, 100 e 200. Generatori DC pulsati in modo bipolare asimmetrico o unipolare, con frequenza e duty cycle programmabili. Potenza d’uscita rispettivamente da 5kW - 10kW - 20kW .

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Alimentatori per plasmi RF

MKS ENI® produce una vasta gamma di generatori RF, alimentatori DC, DC pulsata e reti d’adattamento destinati ai mercati della produzione di semiconduttori, deposizione film sottili e ottici, e della produzione di supporti magnetici.

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