Strumentazione e controllo di Processo / Alimentatori RF e DC - Generatori di Ozono
Alimentatori RF e DC
Generatori RF
MKS ENI® produce una vasta gamma di generatori RF, alimentatori DC, DC pulsata e reti d’adattamento destinati ai mercati della produzione di semiconduttori, deposizione film sottili e ottici, e della produzione di supporti magnetici.
Generatori RPG
La famiglia RPG fornisce potenza DC in modalità pulsata asimmetrica unipolare e bipolare per processi PVD(Physical Vapour Deposition), CVD(Chemical Vapour Deposition) e bias in PVD, con possibilità di miglior controllo della qualità dei rivestimenti. RPG 50 e 100. Generatori DC pulsati in modo bipolare asimmetrico o unipolare, con frequenza e duty cycle programmabili. Potenza d’uscita rispettivamente da 5 e 10 KW.
Optima II
Questa famiglia di generatori è stata creata in versione modulare in modo da permettere di dimensionarne la taglia, in base alle specifiche applicazioni
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