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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto

TEMESCAL - Evaporatori sottovuoto per R&D e produzione

Temescal FC-3800

Sistema ideale per la produzione per wafer fino a 150 mm di diametro, per applicazioni come il lift-off o il rivestimento di gradini , la capacità di carico è di 25 wafer per il processo di lift of e di 36 wafer per il processo di rivestimento dei gradini.

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Temescal FC-4400

Sistema di produzione ad elevato trougthput che consente di processare fino a trenta wafer da 150  mm di diametro.

Per avere veloci cicli di pompaggio, è possibile installare due pompe criogeniche sul load lock, che consentono di raggiungere il vuoto di processo in soli 15 minuti.

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Temescal FC-BCD 2000

Sistema a campana, ideale per piccolo produzioni o per ricerca e sviluppo.
L’evaporatore Temescal BJD-2000 e FC2000 sono sistemi di evaporazione versatili, che possono essere equipaggiati con una ampia varietà di accessori per soddisfare la maggior parte delle richieste.


Disegnati per essere installati in clean room, questi sistemi combinano il massimo della flessibilità, con la loro facilità di utilizzo.

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Temescal FC-BCD 2800

Sistema di medie dimensioni adatto sia per la produzione, che per la ricerca e sviluppo su wafer di grandi dimensioni.

Questo impianto è completamente compatibile per l’installazione in clean room, consente di poter avere una distanza tra il substrato ed i campioni di 866 mm oppure di 1076 mm.

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Temescal UEFC-4900 Auratus

Nuovo sistema di deposizione Temescal ottimizzato per poter processare fino a 25 wafer da 150 mm di diametro, che consente di ottenere uniformità sino ad ora immaginabili su sistemi di deposizione con cannone elettronico.

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Temescal UEFC-5700 Auratus

Nuovo sistema di deposizione Temescal per metalizzare fino a 43 wafer da 150, oppure wafer da 200 mm. Questo nuovo evaporatore consente di ottenere uniformità sino ad ora immaginabili su sistemi di deposizione con cannone elettronico.

Il sistema di pompaggio con due pompe criogeniche da 16" consente di avere cicli di pompaggio molto veloci, infatti in soli 10 minuti è possibile raggiungere dalla pressione atmosferica a 10-7.

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