Questo sito utilizza cookie tecnici, inoltre sono installati cookie di terze parti (tecnici e profilanti). Chiudendo questo banner, l'utente accetta l'utilizzo di tutti i cookie. Per consultare l'informativa cookie completa visitare questa pagina.

OK

PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto

OIPT Oxford Inst. - Sistemi di attacco e deposizione via plasma

Sistemi ALD

OXFORD OIPT fornisce diverse soluzioni per la deposione di strati ultra sottili ALD, oltre alla ALE per l´etching di monolayer atomici, per queste tecniche vanta diversi brevetti internazionali.

I sistemi possono essere usati sia in ambito della ricerca e sviluppo, che in produzione abbiamo a disposizione un´ampia possibilità di processi.

> continua

Sistemi di attacco e deposizione in plasma (RIE - ICP - CVD - PECVD)

OXFORD OIPT offre una gamma completa di reattori al plasma sia per quanto riguarda la deposizione di films sottili PECVD sia in fase gassosa che liquida CVD sputtering ed IBS Ion Beam Sputtering, che per quanto concerne l´attacco ICP e RIE.

> continua