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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Caratterizzazione Superficiale / Microscopia a forza atomica AFM / Park Systems - Microscopi a forza atomica

Microscopio a forza atomica NX20


Col ridursi delle dimensioni minime dei circuiti integrati ed il conseguente incremento di complessità, la qualità dei dati metrologici diventano sempre più critici per il successo della ricerca , della analisi ed, in ultimo, delle prestazioni finali dei dispositivi. La accuratezza di tali dati in nanoscala è una chiave di questo successo. Il microscopio a forza atomica Park NX20 è l´AFM più avanzato per FA e QA, l´unico che consente l´analisi di grandi campioni con la modalità True Non Contact ModeTM che permette di incrementare notevolmente il tempo di vita utile della punta. L´AFM Park NX20 garantisce la più alta accuratezza e ripetibilità oggi disponibile sul mercato per il calcolo della rugosità superficiale e per la valutazione /revisione della difettosità. L´AFM Park NX20 offre la più alta produttività ed il più basso costo operativo attraverso la riduzione drastica dei costi e dei tempi associati al cambio punte. Il risultato è una soluzione AFM totale per FA e QA che integra simultaneamente accuratezza, produttività e riduzione costi operativi.




Immagini AFM accurate grazie all’eliminazione del Crosstalk elettronico

  • Moto lineare in XY e Z con due set di motori indipendenti per campione e punta
  • Movimento fuori piano <1nm sull’intero intervallo di scansione XY
  • Non Linearità dell’asse Z < 0.015%
  • Ridottissimo effetto di risonanza del tavolino di scansione attraverso l’implementazione dell’algoritmo Forward-Sine


Immagini AFM accurate grazie all’utilizzo della modalità True Non Contact ModeTM

  • Eccezionale ampiezza di banda passante in Z fino a 9kHz velocità di retroazione della punta fino a 62mm/s
  • Massima velocità di scansione in True Non Contact ModeTM
  • Minore usura della punta per prolungato mantenimento dell’alta risoluzione in scansione
  • Minimizzazione dell’interazione punta campione con conseguente assenza di danneggiamento o modifica superficiale


Immagini AFM accurate grazie alla tecnologia True Sample Topography

  • La topografia reale del campione viene quantificata attraverso un sensore di misura indipendente dal motore Z, lineare e a bassissimo rumore
  • Disaccoppiamento delle tracce di scansione forward backward minore dello 0.15%
  • Deriva termica meccanica minimizzata  attravreso l’utilizzo di materiali autocompensati in temperature
  • Controllo attivo della Temperatura all’interno dell’isolatore acustico


Produttività AFM NX20

  • Cambio levetta semplicissimo con grande area di accesso alla punta ed al campioneIntuitivo
  • Allineamento del laser attraverso le levette premontate e l’ottico Top Down
  • Ingaggio automatico della levetta con la superficie del campione entro 10s.
  • Elettronica a 24 bit con tre amplificatori lock in interni, Q control e calibrazione della costante di  molla inclusi.

 

Note Applicative :

Consulta gli articoli tecnici realizzati con i microscopi a forza atomica Park

 

Sito Park Systems :


Link al Sito Park Systems

 

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Scheda NX 20