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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto / TEMESCAL - Evaporatori sottovuoto per R&D e produzione

Temescal FC-BCD 2800


Sistema di medie dimensioni adatto sia per la produzione, che per la ricerca e sviluppo su wafer di grandi dimensioni.

Questo impianto è completamente compatibile per l’installazione in clean room, consente di poter avere una distanza tra il substrato ed i campioni di 866 mm oppure di 1076 mm.