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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto / TEMESCAL - Evaporatori sottovuoto per R&D e produzione

Temescal UEFC-4900 Auratus


Nuovo sistema di deposizione Temescal ottimizzato per poter processare fino a 25 wafer da 150 mm di diametro, che consente di ottenere uniformità sino ad ora immaginabili su sistemi di deposizione con cannone elettronico.

Il sistema utilizza una pompa criogenica CTI modello CT-500 che consente di avere cicli di pompaggio veloci, infatti in soli 15 minuti è possibile raggiungere dalla pressione atmosferica a 10-7.

Grazie al design particolare della camera, si sono ottenuti benefici nell’ottimizzazione nei processi diLift-Off, oltre ad basso deposito di materiale sulle pareti del sistema, che consente un abbattimento dei costi, quando di depositano metalli preziosi.