Questo sito utilizza cookie tecnici, inoltre sono installati cookie di terze parti (tecnici e profilanti). Chiudendo questo banner, l'utente accetta l'utilizzo di tutti i cookie. Per consultare l'informativa cookie completa visitare questa pagina.

OK

PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto / TEMESCAL - Evaporatori sottovuoto per R&D e produzione

Temescal UEFC-5700 Auratus


Nuovo sistema di deposizione Temescal per metalizzare fino a 43 wafer da 150, oppure wafer da 200 mm. Questo nuovo evaporatore consente di ottenere uniformità sino ad ora immaginabili su sistemi di deposizione con cannone elettronico.

Il sistema di pompaggio con due pompe criogeniche da 16" consente di avere cicli di pompaggio molto veloci, infatti in soli 10 minuti è possibile raggiungere dalla pressione atmosferica a 10-7.


Grazie al design particolare della camera, si sono ottenuti benefici nell’ottimizzazione nei processi di Lift-Off, oltre ad basso deposito di materiale sulle pareti del sistema, che consente un abbattimento dei costi, quando di depositano metalli preziosi.