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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Cannoni ionici ed elettronici / Kaufman & Robinson - Cannoni Ionici

Serie eH - sorgenti ioniche senza griglia


Le sorgenti della serie eH emettono una corrente elevata e un fascio di energia ridotta.
La corrente ionica generata soddisfa le specifiche per elevate velocità di processo, mentre il bombardamento a ioni a bassa energia elimina i danni alle superfici e alle interfacce.

Applicazioni:

  • Deposizione assistita di fascio ionico durante evaporazione termica ed e-beam (IBAD)
  • Deposizione assistita di fascio ionico nel magnetron sputtering (IBAD)
  • Pulizia In-situ durante sputtering ed evaporazione (PC)
  • Modifica e attivazione superficiale (SM)
  • La deposizione diretta di film sottili duri o (DD)
  • Attacco (etching) con fascio di ioni a bassa energia (LIBE)
  • Deposizione via sputtering con fascio di ioni "Biased target"(BTIBSD)

I modelli a disposizione sono :