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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Cannoni ionici ed elettronici / Kaufman & Robinson - Cannoni Ionici

Serie RFICP - sorgenti RF con griglia


Le sorgenti RFICP producono un plasma ad alta densità senza uso di filamenti. Il fascio estratto dalla scarica  viene controllato in modo preciso per fornire una forma definita, densità di corrente ed energia ionica.

Applicazioni:

  • Deposizione assistita di fascio ionico durante evaporazione termica ed e-beam (IBAD)
  • Pulizia In-situ durante sputtering ed evaporazione (PC)
  • Modifica e attivazione superficiale (SM)
  • Deposizione diretta di rivestimenti sottili, duri o funzionali (DD)
  • Deposizione via sputtering di fasci ionici di strutture singole e multistrato (IBSD)
  • Attacco (etching) con fascio ionico di superfici in qualsiasi materiale (IBE)

I modelli disponibili sono: