Batch Systems

Sviluppo e produzione di strati metallici e dielettrici per substrati piccoli e medi con possibilità di selezionare processi di pretrattamento,deposizione, ritrattamento, ecc. per microelecttronica, MEMS, sensori, ottica, fotovoltaico, superconduttori ad alta temperatura.

Sistemi

• impianti modulari secondo richiesta dei clienti
• camere di alta qualità in acciaio o alluminio
• sistemi di pompaggio esenti da idrocarburi
• sitemi di movimentazione automatica dei substrati
• controllo flessibile dell’impianto basato su WINDOWS

Tecnologia

• magnetron sputtering in DC, RF, MF anche pulsato
• evaporazione basata su effetto Joule o a cannone elettronico
• processi PECVD
• pretrattamento del substrato a caldo a mezzo etching
• polarizzazione del substrato in RF and DC

KA 540 Impianto per piccoli substrati

LA 250 S Impianto da tavolo per substrati da 70x70 (mm)

LS 320 S Impianto da tavolo per substrati da 2"

LS 470 S Impianto da tavolo per substrati da4"

LS 740 S Impianto di sputtering per grandi substrati

LS 980 S Impianto da laboratorio per substrati da 800 cm2