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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Sistemi di processo / Sistemi di attacco e deposizione in vuoto / OIPT Oxford Inst. - Sistemi di attacco e deposizione via plasma

Sistemi ALD

OXFORD OIPT fornisce diverse soluzioni per la deposione di strati ultra sottili ALD, oltre alla ALE per l´etching di monolayer atomici, per queste tecniche vanta diversi brevetti internazionali.

I sistemi possono essere usati sia in ambito della ricerca e sviluppo, che in produzione abbiamo a disposizione un´ampia possibilità di processi.

 

Thermal ALD System with remote plasmaFlexAL®
ALD termico con la possibilità del plasma remoto, rendono questo reattore molto flessibile.
I sistemi FlexAL® offrono una nuova gamma di flessibilità e capacità nella progettazione di strutture e dispositivi su nanoscala, offrendo processi di deposizione a plasma atomico remoto (ALD) e ALD termici combinati in un unico sistema ALD.

 

 

Compact Thermal ALD System OpAL
Sistema compatto a caricamento manuale per deposizione di monostrati atomici (ALD)
Il sistema fornisce deposizione di monostrati atomici di tipo termico e a plasma in un unico sistema compatto.

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