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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Caratterizzazione Superficiale / Analisi di Superficie / IONTOF - Sistemi TOF SIMS & LEIS

TOF.SIMS 5


La Spettrometria di Massa a Tempo di Volo (TOF.SIMS) e una tecnica di indagine superficiale estremamente sensibile e ben consolidata in molti settori dell’industria e della ricerca.
Fornisce informazioni dettagliate sulla composizione elementare e molecolare delle superfici, dei film sottili, delle interfacce e consente la ricostruzione 3D di volumi del campione.
L’uilizzo dei sistemi ION TOF si estende all’industria dei semiconduttori, farmaceutica, delle vernici, dei polimeri, del vetro, dei metalli, delle ceramiche, dei biomateriali ed altri ancora.
Il TOF.SIMS5 e la quinta generazione degli strumenti proposti da ION TOF il cui sviluppo e commercializzazione e incominciato oltre 20 anni fa.

Caratteristiche specifiche dei sistemi TOF.SIMS5 sono:

  • Elevatissima sensibilita per le diverse specie molecolari ottimizzabile attraverso l’ulilizzo di diverse sorgenti ioniche. 
  • Altissima risoluzione laterale e verticale per applicazioni a bassa energia e profili di concentrazione
  • Sofisticato software per facilita d’utilizzo e gestione dei dati
  • Progetto modulare facilmente aggiornabile ed integrabile con altre tecniche quali XPS, Auger etc

 

Per maggiori informazioni fate riferimento al sito IOTOF

 

Sorgente TOF-SIMS

 

Fig. 1

Spaccato sorgente/analizzatore/rivelatore del TOF.SIMS5

 

Esempi Applicativi


Esempi di acquisizione di spettri di massa ad alta risoluzione

Esempi di acquisizione di spettri di massa ad alta risoluzione

Fig. 2 e 3

Esempi di acquisizione di spettri di massa ad alta risoluzione

 

Esempio di mappatura superficiale

 

Esempio di distribuzione topografica

 


Fig. 4 e 5

Esempio di mappatura superficiale e distribuzione topografica delle diverse specie molecolari

 

Analisi 3D della distribuzione ionica

 

Fig. 6

Esempio di distribuzione 3D di ioni metallici in una matrice ceramica