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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Caratterizzazione Superficiale / Misure di spessore, profili, rugosità, stress, nanoindentazione / ULVAC - Ellissometri spettrali

Ellissometro UNECS 2000A


Ellissometro spettroscopico in versione da banco con stage motorizzato in X,Y,R e Z per wafer da 200 mm di diametro, consente di effettuare mappature 2D del wafer intero in poco più di un minuto.

  • Gamma spettrale standard   da 530 nm a 750 nm
  • Gamma spettrale opzionale  da 380 nm a 760 nm
  • Diametro dello Spot  1 mm (opzionale 0,3 mm)
  • Misura di multilayers (fino a 6)

 

 

Esempio di mappatura 2D

Esempio di mappatura 2D

 

Ellissometria Spettrale

ULVAC ha sviluppato un nuovo concetto di ellissometro spettrale, unico del suo genere che, grazie alla tecnologia utilizzata, consente di poter effettuare misure su film sottili con spessori che vanno da 1 nanometro  fino a 1,5 microns.
Le peculiarità di questo strumento sono la facilità di uso, la velocità ed accuratezza delle misure, la semplicità di utilizzo, ed il potente software di elaborazione che consente di poter misurare qualsiasi tipo di substrato o film fino a 6 layers (ovvero un multilayer) e, non da ultimo, il tutto ad un prezzo competitivo.