Questo sito utilizza cookie tecnici, inoltre sono installati cookie di terze parti (tecnici e profilanti). Chiudendo questo banner, l'utente accetta l'utilizzo di tutti i cookie. Per consultare l'informativa cookie completa visitare questa pagina.

OK

PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Caratterizzazione Superficiale / Microscopia elettronica SEM e FIB / ibss Group - Sorgente di pulizia al plasma

Sorgente downstream GV10x


Il plasma downstream GV10x consente di ridurre le contaminazioni da idrocarburi e carbonio da 10 a 20 volte più velocemente rispetto a sistemi tradizionali con vuoto da pompa rotativa.

Nello specifico la pompa turbomolecolare del sistema analitico può essere utilizzata con questo sistema senza nessuna limitazione e senza interrompere il software di controllo dello strumento su cui è installato (SEM, FIB, TEM. XPS etc.)

 

In genere il GV10x DS Asher utilizza come gas di pulizia aria od ossigeno per creare radicali dell�ossigeno stesso ed ozono che rimuovono , gassificandole,  le contaminazioni da idrocarburi.

Da prove effettuate al NIST inoltre si è dimostrato che l�utilizzo di gas idrogeno nella GV10x DS Asher è altrettanto sicuro ed efficace per substrati e campioni sensibili all�ossidazione.


La sorgente a plasma GV10x DS Asher può essere spostata facilmente ed installata su diversi strumenti.

Il processo DS (downstream), spesso chiamato processo plasma a distanza,  a differenza dei comuni sistemi di pulizia a plasma non produce i classici effetti di bombardamento ionico della superficie o di riscaldamemnto del campione.

Il GV10x DS Asher può pulire rapidamente anche le superfici dei campioni direttamente all�interno di un SEM senza dovere aprire la camera di microscopio o rimuovere il campione dallo stesso.

Il processo agisce rapidamente anche negli angoli più lontani della camera da  vuoto, ciò è molto utile perchè piccole tracce di contaminazione possono costantemente desorbire e di conseguenza ricontaminare nuovamente il resto della camera.

Grazie all�ampio intervallo di regolazione dei parametri di processo, come la potenza e la pressione di utilizzo da 5 a 100 Watt e 2 a <0,005 Torr rispettivamente, la sorgente GV10x può essere utilizzata oltre che nelle camere di strumenti analitici anche all�interno di linee di sincrotrone ed EUV ottica oltre che in sistemi metrologici di tipo CDSEMs. 




Applicazioni

La notevole efficacia del GV10x Downstream di eliminare le contaminazioni a base carbonio rappresenta un salto di qualità rispetto ai tradizionali metodi di rimozione quali sono le trappole fredde, i lavaggi con azoto ed anche altri sistemi di pulizia a plasma.

Con il progredire delle nanotecnologie e delle nanoscienze, le tecniche che utilizzano i fasci di elettroni diventano sempre più utilizzate; per poter osservare meglio la morfologia dei campioni si utilizzano sempre più basse tensioni di accelerazione che, oltre all’utilizzo di gas precursori per deposizione di materiali nei sistemi a fascio ionico, rende la necessità di poter pulire la camera da contaminanti una richiesta oramai irrinunciabile.

La condizione necessaria per ottenere buone immagini ad alta risoluzione diventerà sempre più dipendente dalla capacità di mantenere la contaminazione di carbonio a livelli molto bassi.

Tra i sistemi in cui il GV10x viene impiegato con successo vi sono:

  • Microscopi elettronici a scansione e FIB
  • Microscopi a trasmissione
  • Sistemi UHV per l�analisi delle superfici (XPS, TOF-SIMS, ESCA, AUGER)
  • Camere da ultra alto vuoto
  • Ottiche a raggi X
  • Acceleratori di particelle