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PRODOTTI GGK

OCCASIONI

Prodotti di Consumo / Wafer e cristalli di silicio / SIL-TRONIX - Prodotti in Silicio

Prodotti speciali


Prodotti disponibili

  • Cristalli di silicio
  • Zero background holder per XRD
  • Wafer con drogaggi su specifica del cliente
  • Cristalli raggi X
  • Target per sputtering in silicio
  • Possibilità di acquistare  piccoli e medi quantitativi
  • Possibilità di comporre le caratteristiche dei prodotti
  • Alta qualità dei prodotti

 

Cristalli di silicio

  • Realizzazione di cristalli di silicio (blocchi)  per Neutroni, Raggi X, Infrarossi
  • Lucidatura  delle pareti del crisitallo
  • Roughness < 3Å
  • Eccellente planarità


Campi applicativi: Centri di ricerca per sorgenti di neutroni e infrarossi.

Zero background holder per XRD

  • Realizzazione di zero back ground holder su misura (con o senza cavità)
  • Spessore compreso tra 500 µm ÷ 500 µ
  • Diametro holder da 10mm a 48 mm con una precisione di ± 0,1 mm
  • Diametro standard da 25,4 mm a 32 mm.
  • Realizzazione su disegno del cliente
  • Nessuna difrazione di raggi X
  • Accuratezza dell’orientamento: 0.2°
  • Possibilità di differenti orientazioni:(510) (911) (100) 9° (001)…


Campo applicativo: per tuttigli utilizzatori di XRD

Cristalli raggi X

  • Realizzazione cristalli su misura secondo le specifiche dl cliente
  • Massime dimensioni ottenibili diametro 15 cm con una lunghezza di 20 cm
  • Realizzazione di cristalli secondo specifica  e disegno del cliente
  • Tecniche di lucidatura ottimizzate
  • Roughness < 2Å
  • Finitura con lucidatura meccanica e chimica 


Campo applicativo: Laboratori con attrezzature a raggi X.

Prismi THZ

  • Realizzazione di cristalli ATR
  • Realizzazione Prismi THZ
  • Lucidatura  degli spigoli e dei bordi.
  • Lucidatura chimica e meccanica      Roughness < 1nm.
  • Lucidatura con diamante sui bordi  Roughness <5nm


Campo applicativo: Radiometria, Radio astronomia

Sputtering target

Realizzazione di target su misura per il cliente:  diametro da 10 a 150 mm
                                                                    spessore da 0,5 a   10 mm
Costruzione di target standard:                        diametro 60 mm
                                                                    spessore    5 mm
                                                                    finitura con etch

Campo applicativo: Laboratori di ricerca che usano sistemi XRD