Descrizione
Ellissometro spettroscopico in versione da banco con stage motorizzato in X,Y,R per wafer da 300 mm, consente di effettuare mappature 2D di un wafer intero (da 300mm) in poco più di due minuti.
- Gamma spettrale standard da 530 nm a 750 nm
- Gamma spettrale opzionale da 380 nm a 760 nm
- Spot del fascio 1 mm (opzionale 0,3 mm)
- Misura di multilayers (fino a 6)
Esempio di mappatura 2D
Ellissometria Spettrale
ULVAC ha sviluppato un nuovo concetto di ellissometro spettrale, unico del suo genere che, grazie alla tecnologia utilizzata, consente di poter effettuare misure su film sottili con spessori che vanno da 1 nanometro fino a 1,5 microns.
Le peculiarità di questo strumento sono la facilità di uso, la velocità ed accuratezza delle misure, la semplicità di utilizzo, ed il potente software di elaborazione che consente di poter misurare qualsiasi tipo di substrato o film fino a 6 layers (ovvero un multilayer) e, non da ultimo, il tutto ad un prezzo competitivo.