Ferrotec Temescal FC-2800/BCD-2800:

Produzione Industriale e R&D Wafer Grandi Dimensioni

Sistemi Deposizione Temescal FC-2800/BCD-2800


I sistemi deposizione Temescal FC-2800 e BCD-2800 rappresentano la soluzione avanzata per produzione industriale e ricerca su wafer di grandi dimensioni. Questi sistemi evaporazione alta capacità con camera cubica (box chamber) sono progettati per applicazioni che richiedono massima produttività e flessibilità operativa in ambiente clean room.

Caratteristiche Avanzate Sistemi Produzione

Differenze Tecniche FC-2800 vs BCD-2800

  • FC-2800: Sistema con load-lock per produzione che isola la camera prodotto durante il caricamento
  • BCD-2800: Sistema non load-locked per applicazioni R&D ad alta flessibilità

Specifiche Camera Prodotto Industriale

  • Camera cubica: 28″ x 28″ x 28″ (711 x 711 x 711 mm)
  • Distanza sorgente-substrato: Standard 34″ (estendibile a 42″)
  • Cryopump alta capacità: CT-400 da 21.500 L/sec
  • Tempo pompaggio: < 20 minuti per 1E-06 Torr

Capacità Produttiva e Wafer Supportati

Configurazioni Wafer Ottimizzate

  • Wafer 100mm: Fino a 25 pezzi per ciclo (lift-off)
  • Wafer 150mm: Fino a 12 pezzi per ciclo
  • Supporto HULA: High Uniformity Lift-off Assembly
  • Tooling flip: Deposizione double-side e edge coating

Applicazioni Produzione Industriale

Questi sistemi deposizione industriale sono ideali per:

  • Produzione semiconduttori su wafer 100-150mm
  • Ricerca e sviluppo su substrati di grandi dimensioni
  • Processi lift-off ad alta uniformità
  • Deposizione planetaria ad alta velocità
  • Coating step coverage avanzato

Tecnologia Box Chamber Avanzata

Vantaggi Camera Cubica vs Bell Jar

La box chamber 28″³ offre:

  • Maggiore volume utile per substrati di grandi dimensioni
  • Accesso laterale per manutenzione semplificata
  • Uniformità migliorata su aree estese
  • Flessibilità configurazione sorgenti multiple

Sistema Isolamento Sorgente

  • Valvola isolamento sorgente per accesso camera prodotto indipendente
  • Camera sorgente separata con cryopump dedicata CT-8 da 4.000 L/sec
  • Vassoio sorgente da 20″ estraibile con paranco elettrico
  • Accesso dual-side da clean room e lato chase

Controllo Processo TCS per Produzione

Sistema Controllo Temescal (TCS)

Il controllo processo avanzato include:

  • Modalità automatica per ricette fino a 20 step
  • Process Variable Monitoring (PVM) con allarmi tolleranza
  • Data logging completo per tracciabilità produzione
  • Interfaccia touchscreen 17″ ad alta risoluzione

Sicurezza e Accessi Multi-Utente

  • Protezione password per tre livelli utente diversi
  • Interlock completi per sicurezza operativa
  • Emergency stop multipli (3 EMO switches)
  • Controllo autopump/autovent automatizzato

Sorgenti Electron Beam per Produzione

Configurazioni E-beam Industriali

  • Torretta PopTop: 4-6 tasche da 25cc + 1 tasca fissa
  • Alimentatori alta potenza: CV-6SLX/CV-12SLX (6-12 kW)
  • Upgrade Simba2: Disponibile fino a 15 kW
  • Controller TemEBeam: Controllo sweep, indice e alta tensione

Sorgenti Multiple e Wire Feeder

  • Fino a 3 sorgenti resistive aggiuntive
  • Wire feeder singoli/doppi per materiali a filo
  • Estensione pozzo sorgente da 4″ disponibile
  • Controller sweep programmabili SS64 multipli

Sistemi Vuoto e Pompaggio Industriale

Pompe Cryogenic Alta Capacità

  • Cryopump prodotto: CT-400 da 17.500 L/sec
  • Opzione doppia cryopump per capacità estesa
  • Cryopump sorgente: CT-8 da 4.000 L/sec
  • Monitoraggio temperatura automatico

Sistema Pompaggio Primario

  • Pompa dry roughing: >60 cfm (102 m³/h)
  • Misuratori attivi: Inverted Magnetron e Pirani
  • Controllo TCS integrato per tutti i parametri vuoto
  • Rigenerazione automatica cryopump programmabile

Opzioni Avanzate per Produzione

Controllo Processo e Interfacce

  • SECS/GEM interface per integrazione factory
  • Simulatore TCS per training offline
  • Controller deposizione doppio per co-deposizione
  • Monitoraggio temperatura camera continuo

Sistemi Analisi e Processo

  • Analizzatore gas residui (RGA) integrato
  • Controllo gas processo fino a 3 gas
  • Ion source 3cm/5cm per cleaning/etch
  • Riscaldatori substrato programmabili

Installazione Clean Room Flessibile

Configurazioni Installazione

  • Freestanding: Installazione autonoma
  • Through-the-wall: Integrazione clean room/chase
  • Accesso dual-side: Ottimizzazione flussi produttivi
  • Rack elettronica mobile: 19″ standard su ruote

Manutenzione Ottimizzata per Produzione

Design Manutenzione Facilitata

  • Porta pompaggio offset: Riduce contaminazione e downtime
  • Pannelli a cerniera: Accesso diretto componenti
  • Source tray swing-out: Cambio materiali rapido
  • Accesso manifold acqua: Manutenzione semplificata

Supporto Tecnico Ferrotec Italia

Come distributori autorizzati Ferrotec Temescal, garantiamo:

  • Consulenza applicativa specializzata per produzione
  • Training operatori completo su sistemi TCS
  • Assistenza installazione e qualifica sistema
  • Contratti manutenzione personalizzati
  • Ricambi originali e kit consumabili

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