Produzione Industriale e R&D Wafer Grandi Dimensioni
I sistemi deposizione Temescal FC-2800 e BCD-2800 rappresentano la soluzione avanzata per produzione industriale e ricerca su wafer di grandi dimensioni. Questi sistemi evaporazione alta capacità con camera cubica (box chamber) sono progettati per applicazioni che richiedono massima produttività e flessibilità operativa in ambiente clean room.
Caratteristiche Avanzate Sistemi Produzione
Differenze Tecniche FC-2800 vs BCD-2800
FC-2800: Sistema con load-lock per produzione che isola la camera prodotto durante il caricamento
BCD-2800: Sistema non load-locked per applicazioni R&D ad alta flessibilità
Specifiche Camera Prodotto Industriale
Camera cubica: 28″ x 28″ x 28″ (711 x 711 x 711 mm)
Distanza sorgente-substrato: Standard 34″ (estendibile a 42″)
Cryopump alta capacità: CT-400 da 21.500 L/sec
Tempo pompaggio: < 20 minuti per 1E-06 Torr
Capacità Produttiva e Wafer Supportati
Configurazioni Wafer Ottimizzate
Wafer 100mm: Fino a 25 pezzi per ciclo (lift-off)
Wafer 150mm: Fino a 12 pezzi per ciclo
Supporto HULA: High Uniformity Lift-off Assembly
Tooling flip: Deposizione double-side e edge coating
Applicazioni Produzione Industriale
Questi sistemi deposizione industriale sono ideali per:
Produzione semiconduttori su wafer 100-150mm
Ricerca e sviluppo su substrati di grandi dimensioni
Processi lift-off ad alta uniformità
Deposizione planetaria ad alta velocità
Coating step coverage avanzato
Tecnologia Box Chamber Avanzata
Vantaggi Camera Cubica vs Bell Jar
La box chamber 28″³ offre:
Maggiore volume utile per substrati di grandi dimensioni
Accesso laterale per manutenzione semplificata
Uniformità migliorata su aree estese
Flessibilità configurazione sorgenti multiple
Sistema Isolamento Sorgente
Valvola isolamento sorgente per accesso camera prodotto indipendente
Camera sorgente separata con cryopump dedicata CT-8 da 4.000 L/sec
Vassoio sorgente da 20″ estraibile con paranco elettrico
Accesso dual-side da clean room e lato chase
Controllo Processo TCS per Produzione
Sistema Controllo Temescal (TCS)
Il controllo processo avanzato include:
Modalità automatica per ricette fino a 20 step
Process Variable Monitoring (PVM) con allarmi tolleranza
Data logging completo per tracciabilità produzione
Interfaccia touchscreen 17″ ad alta risoluzione
Sicurezza e Accessi Multi-Utente
Protezione password per tre livelli utente diversi
Interlock completi per sicurezza operativa
Emergency stop multipli (3 EMO switches)
Controllo autopump/autovent automatizzato
Sorgenti Electron Beam per Produzione
Configurazioni E-beam Industriali
Torretta PopTop: 4-6 tasche da 25cc + 1 tasca fissa
Alimentatori alta potenza: CV-6SLX/CV-12SLX (6-12 kW)
Upgrade Simba2: Disponibile fino a 15 kW
Controller TemEBeam: Controllo sweep, indice e alta tensione
Sorgenti Multiple e Wire Feeder
Fino a 3 sorgenti resistive aggiuntive
Wire feeder singoli/doppi per materiali a filo
Estensione pozzo sorgente da 4″ disponibile
Controller sweep programmabili SS64 multipli
Sistemi Vuoto e Pompaggio Industriale
Pompe Cryogenic Alta Capacità
Cryopump prodotto: CT-400 da 17.500 L/sec
Opzione doppia cryopump per capacità estesa
Cryopump sorgente: CT-8 da 4.000 L/sec
Monitoraggio temperatura automatico
Sistema Pompaggio Primario
Pompa dry roughing: >60 cfm (102 m³/h)
Misuratori attivi: Inverted Magnetron e Pirani
Controllo TCS integrato per tutti i parametri vuoto