Sistemi di processoSistemi di litografia Cannoni ionici ed elettronici Impianti industriali in vuoto Reattori al plasma Sistemi di attacco e deposizione in vuoto Sistemi e processi di coating speciali Caratterizzazione superficialeMicroscopia a forza atomica AFM Microscopia elettronica SEM e FIB Preparativa per la microscopia SEM Campioni di Calibrazione Analisi di Superficie e Chimica Misure di spessore, profili, rugosità, stress, resistività nanoindentazione Strumentazione controllo di processoAlimentatori RF e DC – Generatori di Ozono Analisi emissioni gas di scarico Analisi gas Componentistica da vuoto e fasce riscaldanti Misura e controllo vuoto, pressione e flussi Ricerca delle fughe Prodotti di consumoFluidi, Oli e Grassi per applicazioni speciali Target e materiale da Evaporazione Wafer e cristalli di silicio
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