Heidelberg Instruments dal 1984 progetta, sviluppa e produce sistemi di litografia laser maskless per la fabbricazione di micro-strutture, servendo a livello globale la comunità sia nel campo della scrittura diretta che nella produzione di fotomaschere.
Le aree applicative includono MEMS, micro-ottica, advanced packaging (3DIC), IC, display a schermo piatto (FPD), micro-fluidica, sensori e altri componenti elettronici analogici e digitali. I sistemi Heidelberg Instruments sono utilizzati in più di 50 paesi nella ricerca e sviluppo, nella prototipazione rapida e produzione industriale.
Nel 2018, Heidelberg Instruments ha acquisito la Swisslitho, una giovane e innovativa azienda high-tech con esperienza nella litografia a scansione termica (STPL), una tecnologia realizzata con i loro sistemi Nanofrazor.
Insieme, Heidelberg Instruments e Swisslitho sono ora in grado di fornire ai clienti una scelta aggiuntiva di strumenti e opzioni nel campo della nano- e microlitografia.
ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.
I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.
Cosa è il processo PALD
Cosa è il processo ALD
Alcuni partners/clienti mondiali, quali:
Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory
Dal 2003, memsstar è uni dei principali fornitori europeo per soluzioni di attacco e deposizione per il mercato dei semiconduttori, MEMS e relativi processi di produzione tecnologica.
memsstar produce sistemi avanzati per etching, deposizione e rivestimento superficiale, utilizzati nella realizzazione di dispositivi MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), offrendo una varietà di soluzioni di processo per R&D e produzione
Filmetrics è stata fondata nel 1995 con lo scopo di rendere le misure dei film sottili facili e ad un costo competitivo. Questo nuovo concetto ha cambiato lo scenario nel mercato, in quanto prima, il costo di questa tipologia di strumenti per misura dello spessore dei film sottili
Filmetrics ha quindi introdotto un approccio rivoluzionario, attraverso un’elettronica ed un software di controllo che consentono di effettuare misure dello spessore dei film sottili in tempi brevissimi, anche da utenti inesperti che possono essere formati in pochi minuti.
Attualmente abbiamo linee di prodotti:
KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.
Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.
KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.
Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.
Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.
La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.
Park Systems si sforza ogni giorno di essere all’altezza dello spirito innovativo dei suoi inizi. Nel corso della nostra lunga storia, abbiamo onorato il nostro impegno nel fornire gli AFM più accurati e allo stesso tempo molto facili da usare, con caratteristiche rivoluzionarie come la modalità True Non-Contact™ e molti software automatizzati. Non ci accontentiamo semplicemente di basarci sul nostro successo passato. Tutti i nostri prodotti sono progettati con la stessa cura e creatività che è entrata agli inizi, permettendoti di concentrarti su come ottenere risultati senza preoccuparti dell’integrità dei tuoi strumenti.
Dopo oltre un quarto di secolo di continua crescita e innovazione dei prodotti, Park ha la più lunga storia di business degli AFM nel settore. L’azienda ha sviluppato una rete di vendita globale di oltre 30 paesi e ha più di 1000 AFM in uso in tutto il mondo. È l’azienda AFM in più rapida crescita con più di 120 dipendenti a tempo pieno dedicati alla produzione degli AFM più accurate e facili da usare.
Thermo Scientific è uno dei maggiori gruppi industriali al mondo per la fornitura di strumentazione analitica, con un fatturato che ha superato i 18 M di $ nell’ultimo anno e con più di 50.000 occupati in 50 paesi del mondo.
Gambetti Kenologia rappresenta in Italia la divisione degli strumenti per analisi superficiale XPS (Photon electron X-Ray Spettroscopy) di Thermo Scientific
La spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS) è una tecnica utilizzata per analizzare la chimica delle superfici di un materiale. Con questa tecnica si può misurare la composizione elementare, la formula empirica, lo stato chimico e lo stato elettronico degli elementi di un materiale.
Gli Spettri XPS sono ottenuti irradiando una superficie solida con un fascio di raggi X e, contemporaneamente, misurando l’energia cinetica degli elettroni che vengono emessi dai primi strati superficiali (da 1 a 10 nm del materiale analizzato).
La società ION TOF è un´azienda leader nella realizzazione di sistemi analitici di superficie di tipo TOF SIMS (Time of Flight – Secondary Ions Mass Spectroscopy) e LEIS (high sensitive Low Energy Ion Scattering).
La società , fondata dal Prof. Alfred Benninghoven nel 1989, ha iniziato la sua attività , commercializzando le soluzioni analitiche realizzate grazie alle pionieristiche ricerche del Prof. Benninghoven e del suo team di ricercatori dell´Università di Munster.
Sin dall´inizio il contributo tecnologico e scientifico delle ricerche condotte presso l´Università di Munster ha avuto un ruolo cruciale per il successo commerciale dei prodotti.
Nel frattempo la tecnica TOF SIMS si è affermata come una delle più efficaci e potenti tecniche di investigazione della composizione chimica delle superfici e degli strati vicini alla superficie.
Di più recente introduzione invece è la tecnica LEIS, che consente l´investigazione chimica non distruttiva della composizione chimica, e della relativa distribuzione spaziale, delle specie presenti nel solo primo strato atomico di superficie.
Dalle prime realizzazioni ad oggi, sono state introdotte molte innovazioni che hanno migliorato le caratteristiche di risoluzione spaziale e di affidabilità , ed attualmente sono in esercizio circa 160 strumenti in tutto il mondo.
Il costante coinvolgimento in progetti di ricerca universitari, in modo particolare nel settore delle Nanotecnologie, consente di avere un contatto diretto con i problemi e le richieste di potenzialità analitica che vengono avanzati.
Questo aspetto risulta di grande impulso per lo sviluppo scientifico e tecnologico del portafoglio prodotti.
ION TOF lavora in simbiosi con TASCON, la quale attraverso dimostrazioni e servizi di analisi conto terzi permette un facile e consistente approccio alle potenzialità analitiche delle tecniche TOF SIMS e LEIS.
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Oxford Instruments Plasma Technology offre sistemi di processo flessibili e configurabili, per processi di ultima generazione, che permettono la realizzazione precise, controllata e ripetibile di micro e nano strutture.
Questi sistemi forniscono soluzioni di processo per la crescita e la rimozione di strati di materiali su strutture a livello nanometrico.
Queste soluzioni sono basate su tecnologie di deposizione o attacco assistite da Plasma, quali PECVD, Sputtering e RIE/ICP( Plasma Enhanced Vapor Deposition e Etching) , assistite da Fasci ionici( Ion Beam Sputtering e Etching), Atomic Layer Deposition (ALD),e Hydride Vapor Phase Epitaxy(HVPE).
La gamma dei prodotti comprende sistemi compatti adatti per applicazioni in Ricerca e Sviluppo, sistemi di produzione tipo batch , sistemi multicamera ( Cluster) e multitecnica, con caricatori Cassette to Cassette per sistemi ad altra produttività.
I mercati principali a cui OIPT si rivolge sono:
Commerciale
sales@gambetti.it
Assistenza tecnica
service@gambetti.it
Prodotti usati
occasioni@gambetti.it