GAMBETTI Kenologia Srl
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Pagine

Heidelberg Instruments – sistemi litografici

Febbraio 12, 2021/in /da gambetti

Heidelberg Instruments – Litografia laser maskless e thermal probe

Prodotti

Tutto 9 /Sistemi laser maskless e thermal probe 9

MPO 100

MPO 100 è uno strumento multiutente per litografia 3D e microstampa 3D

μMLA

Maskless aligner da tavolo

Nanofrazor Scholar

Nanofabbricazione avanzata per tutti

Nanofrazor Explore

Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match

MLA150

Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni

DWL 66+

Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi

MLA300

Maskless aligner per la produzione in serie

DWL 2000/4000

Scrittura diretta 2D e 2.5D per grandi aree

ULTRA

Laser Mask Writer per i semiconduttori

Partner

 

Heidelberg Instruments dal 1984 progetta, sviluppa e produce sistemi di litografia laser maskless per la fabbricazione di micro-strutture, servendo a livello globale la comunità sia nel campo della scrittura diretta che nella produzione di fotomaschere.

Le aree applicative includono MEMS, micro-ottica, advanced packaging (3DIC), IC, display a schermo piatto (FPD), micro-fluidica, sensori e altri componenti elettronici analogici e digitali. I sistemi Heidelberg Instruments sono utilizzati in più di 50 paesi nella ricerca e sviluppo, nella prototipazione rapida e produzione industriale.

Nel 2018, Heidelberg Instruments ha acquisito la Swisslitho, una giovane e innovativa azienda high-tech con esperienza nella litografia a scansione termica (STPL), una tecnologia realizzata con i loro sistemi Nanofrazor.

Insieme, Heidelberg Instruments e Swisslitho sono ora in grado di fornire ai clienti una scelta aggiuntiva di strumenti e opzioni nel campo della nano- e microlitografia.

/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 gambetti /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png gambetti2021-02-12 12:15:512022-11-02 11:08:05Heidelberg Instruments - sistemi litografici

Forge Nano – Soluzioni ALD scalabili

Maggio 7, 2020/in /da gambetti

Forge Nano – Soluzioni ALD scalabili

Prodotti

Tutto 2 /Sistemi ALD per polveri ed oggetti 3D - FORGE NANO 2

Prometheus ALD

ALD per polveri da laboratorio per R&D

Athena ALD

ALD per oggetti 3D e materiali porosi per R&D

Partner

 

ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.

I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.

Cosa è il processo PALD


Cosa è il processo ALD

Alcuni partners/clienti mondiali, quali:

Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory

/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 gambetti /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png gambetti2020-05-07 14:42:412021-10-10 20:00:57Forge Nano - Soluzioni ALD scalabili

memsstar sistemi di processo per MEMS

Marzo 25, 2020/in /da gambetti

Sistemi etching e rivestimento superficiale

Prodotti

Tutto 2 /Sistemi di etching e rivestimento superficiale - memsstar 2

AURIX

Sistema per la preparazione di superfici e la deposizione di rivestimenti superficiali avanzati e strati protettivi per dispositivi sensibili.

XERIC

Tecnologia utilizzante Difluoruro di Xenon in fase vapore per la rimozione a secco di strati sacrificali di Silicio e di SiO2

Partner

 

Dal 2003, memsstar è uni dei principali fornitori europeo per soluzioni di attacco e deposizione per il mercato dei semiconduttori, MEMS e relativi processi di produzione tecnologica.

memsstar produce sistemi avanzati per etching, deposizione e rivestimento superficiale, utilizzati nella realizzazione di dispositivi MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), offrendo una varietà di soluzioni di processo per R&D e produzione

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/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 gambetti /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png gambetti2020-03-25 15:24:322021-02-16 17:48:16memsstar sistemi di processo per MEMS

Filmetrics – misura spessore e resistività dei film sottili

Aprile 23, 2019/in /da gambetti

Filmetrics – misura spessore e resistività dei film sottili

Prodotti

Tutto 7 /Misura dello spessore dei film sottili - Filmetrics 7

Mappatura automatizzata dello spessore del film F54

F54 Misura la mappatura dei film sottili, per campioni fino a 200mm di diametro

Misuratore della resistività R50

R50 Misuratore della resistività dei film

Sistemi di mappatura automatici

Spettrofotometri per la mappatura 3D automatica dei film sottili su più punti, per dimensioni fino a 200mm di diametro e con diverse lunghezze d'onda

Misurazioni microscopiche a singolo punto

Sistema per la misura dello spessore dei film sottili con spot di 1 um, adattabile anche mu microscopi ottici esistenti, grazie all'adattatore Cmount.

Misurazioni dello spessore a singolo punto

Sistemi da tavolo per la misurazione dello spessore dei film sottili e del loro indice di rifrazione disponibili con varie lunghezze d'onda da 190 a 1690 nm.

Optical monitor per processi in linea

Sistemi optical monitor per la misura del rate di deposizione, spessore del film, constanti ottiche, all'interno dei sistemi di deposizione per film sottili

Profilometro ottico Profilm3D

Profilometro ottico 3D a luce bianca WLI, primo strumento al mondo ad un costo contenuto che consente di ottenere misure 3D, di rugosità, gradini, in modo semplice ed accurato

Partner

 

Filmetrics è stata fondata nel 1995 con lo scopo di rendere le misure dei film sottili facili e ad un costo competitivo. Questo nuovo concetto ha cambiato lo scenario nel mercato, in quanto prima, il costo di questa tipologia di strumenti per misura dello spessore dei film sottili

Filmetrics ha quindi introdotto un approccio rivoluzionario, attraverso un’elettronica ed un software di controllo che consentono di effettuare misure dello spessore dei film sottili in tempi brevissimi, anche da utenti inesperti che possono essere formati in pochi minuti.

Attualmente abbiamo linee di prodotti:

  • Sistemi per la misura a singolo spot
  • Sistemi per la misura con spot micro
  • Sistemi per la misura e mappatura automatica
  • Sistemi per la misura dei film optical monitor
  • Profilometria ottica

www


/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 gambetti /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png gambetti2019-04-23 17:39:592021-04-24 10:18:39Filmetrics - misura spessore e resistività dei film sottili

KLA – Profilometri a stilo ed ottici 3D

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

KLA – Profilometri a stilo, confocali ed interferometrici

Prodotti

Tutto 8 /Profilometri a stilo e ottici 3D - KLA-Tencor 8

Profilometro ottico Profilm3D

Profilometro ottico 3D a luce bianca WLI, primo strumento al mondo ad un costo contenuto che consente di ottenere misure 3D, di rugosità, gradini, in modo semplice ed accurato

Profilometro AlphaStep® D-500

Profilometro a stilo AlphaStep® D-500 con stage manuale

Profilometro AlphaStep® D-600

Profilometro a stilo Alpha-Step® D-600 con stage automatico

Profilometro a stilo P-7

Profilometro a stilo serie P7 con stage automatico

Profilometro a stilo P-17

Profilometro a stilo serie P17 con stage motorizzato ed automazione avanzata

Profilometro ottico Z20

Z20 profilometro ottico confocale di tipo multimodale

Profilometro ottico

Z300 profilometro ottico confocale di tipo multimodale

Profilometro ottico Z-388

Z388 profilometro ottico confocale di tipo multimodale automatizzato

Partner

 

KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.

Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.

KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.

Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.

Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.

La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.

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/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 auxonet /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png auxonet2018-05-16 12:22:252021-02-18 13:12:56KLA - Profilometri a stilo ed ottici 3D
FX40 Park AFMPark Systems

Park Systems – Microscopi a forza atomica

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

Park Systems – Microscopi a forza atomica

Prodotti

Tutto 8 /Microscopi a forza atomica - Park Systems 8
FX40 Park AFMPark Systems

Park Systems FX40

Il microscopio a forza atomica Park FX40 è il primo AFM al mondo di facile utilizzo con tecnologia robotica e self-learning

Microscopio a forza atomica XE7

Il microscopio a forza atomica XE 7 entry level

Microscopio a forza atomica NX10

Il microscopio AFM NX10 di Park System, garantisce accuratezza della costruzione dell’immagine, velocità di scansione, e una durata del tip ineguagliabile

Microscopio a forza atomica NX10 SICM

Microscopio a forza atomica NX10 per analisi SICM

Microscopio a forza atomica NX12

Microscopio a forza atomica NX12 per analisi elettrochimiche ed in liquido

Microscopio a forza atomica XE15

Microscopio a forza atomica per campioni di grandi dimensioni XE 15

Microscopio a forza atomica NX20

Microscopio a forza atomica ad alte prestazioni NX20 per campioni di grandi dimensioni

Microscopio a forza atomica NX-Hivac

NX-HiVAC microscopio a forza atomica in alto vuoto

Partner

 

L’azienda AFM in più rapida crescita con le maggiori risorse.

Park Systems si sforza ogni giorno di essere all’altezza dello spirito innovativo dei suoi inizi. Nel corso della nostra lunga storia, abbiamo onorato il nostro impegno nel fornire gli AFM più accurati e allo stesso tempo molto facili da usare, con caratteristiche rivoluzionarie come la modalità True Non-Contact™ e molti software automatizzati. Non ci accontentiamo semplicemente di basarci sul nostro successo passato. Tutti i nostri prodotti sono progettati con la stessa cura e creatività che è entrata agli inizi, permettendoti di concentrarti su come ottenere risultati senza preoccuparti dell’integrità dei tuoi strumenti.

Dopo oltre un quarto di secolo di continua crescita e innovazione dei prodotti, Park ha la più lunga storia di business degli AFM nel settore. L’azienda ha sviluppato una rete di vendita globale di oltre 30 paesi e ha più di 1000 AFM in uso in tutto il mondo. È l’azienda AFM in più rapida crescita con più di 120 dipendenti a tempo pieno dedicati alla produzione degli AFM più accurate e facili da usare.


https://www.gambetti.it/wp-content/uploads/2021/07/FX40_elementi.jpg 400 400 auxonet /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png auxonet2018-05-16 12:22:192021-08-01 08:54:05Park Systems - Microscopi a forza atomica

Thermo Scientific- Sistemi XPS – XRay Photoelectron Spectroscopy (XPS)

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

Thermo Scientific – Sistemi XPS – XRay Photoelectron Spectroscopy (XPS)

Prodotti

Tutto 4 /Sistemi XPS - XRay Photoelectron Spettroscopy (XPS) -Thermo Scientific 4

Spettrometro XPS Nexsa G2

Spettrometro XPS Nexsa con RAMAN

ESCALAB QXi XPS

Lo spettrometro XPS ESCALAB 250 Xi+ soddisfa le richieste di coloro che necessitano di maggiori prestazioni analitiche unite alla flessibilità.

Spettrometro XPS compatto K-Alpha+

Lo spettrometro Thermo Scientific™ K-Alpha™ XPS è stato progettato per fornire risultati di alta qualità sulla base di un flusso di lavoro semplificato. Ha un funzionamento semplice e intuitivo, senza dover rinunciare alle capacità di analisi sia in termini di performance che di XPS.

MAGCIS Cannone a ioni di argon clusterizzati

MAGCIS™ cannone ad ioni di argon clusterizzati

Partner

 
Brochure generale

Thermo Scientific è uno dei maggiori gruppi industriali al mondo per la fornitura di strumentazione analitica, con un fatturato che ha superato i  18 M di $ nell’ultimo anno e con  più di 50.000 occupati in 50 paesi del mondo.

Gambetti Kenologia rappresenta in Italia la divisione degli strumenti per analisi superficiale XPS (Photon electron X-Ray Spettroscopy) di Thermo Scientific

La spettroscopia fotoelettronica a raggi X (XPS) è una tecnica utilizzata per analizzare la chimica delle superfici di un materiale. Con questa tecnica si può misurare la composizione elementare, la formula empirica, lo stato chimico e lo stato elettronico degli elementi di un materiale.

Gli Spettri XPS sono ottenuti irradiando una superficie solida con un fascio di raggi X e, contemporaneamente, misurando l’energia cinetica degli elettroni che vengono emessi dai primi strati superficiali (da 1 a 10 nm del materiale analizzato).

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/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 auxonet /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png auxonet2018-05-16 12:22:142020-03-27 15:38:36Thermo Scientific- Sistemi XPS - XRay Photoelectron Spectroscopy (XPS)

IONTOF – Sistemi SIMS & LEIS

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

Analisi di superfice SIMS & LEIS

Prodotti

Tutto 5 /Sistemi TOF SIMS & LEIS - ION TOF 5

M6 SIMS

M6 è l'ultima generazione di strumenti di fascia alta di IONTOF Il suo design garantisce prestazioni superiori in tutti i campi delle applicazioni SIMS

M6 Plus SIMS

M6 Plus SIMS che unisce la composizione chimica, alle proprietà fisiche e alla struttura tridimensionale dei materiali e dispositivi su scala nanometrica

M6 Hybrid SIMS

Con l’estensione Q ExactiveTM per M6, IONTOF fornisce il primo strumento SIMS commerciale che combina la più elevata risoluzione di massa

QTAC 100 analisi superficiale LEIS

Il Qtac100 per l'analisi LEIS (low Energy Ion Scattering)

Spettrometro TOF SIMS 5

TOF.SIMS 5 IONTOF offre uno strumento TOF-SIMS collaudato sul campo ed efficiente standard di mercato nella ricerca e nell'industria

Partner

 

La società ION TOF è un´azienda leader nella realizzazione di sistemi analitici di superficie di tipo TOF SIMS (Time of Flight – Secondary Ions Mass Spectroscopy) e LEIS (high sensitive Low Energy Ion Scattering).

La società , fondata dal Prof. Alfred Benninghoven nel 1989, ha iniziato la sua attività , commercializzando le soluzioni analitiche realizzate grazie alle pionieristiche ricerche del Prof. Benninghoven e del suo team di ricercatori dell´Università di Munster.

Sin dall´inizio il contributo tecnologico e scientifico delle ricerche condotte presso l´Università di Munster ha avuto un ruolo cruciale per il successo commerciale dei prodotti.

Nel frattempo la tecnica TOF SIMS si è affermata come una delle più efficaci e potenti tecniche di investigazione della composizione chimica delle superfici e degli strati vicini alla superficie.

Di più recente introduzione invece è la tecnica LEIS, che consente l´investigazione chimica non distruttiva della composizione chimica, e della relativa distribuzione spaziale, delle specie presenti nel solo primo strato atomico di superficie.

Dalle prime realizzazioni ad oggi, sono state introdotte molte innovazioni che hanno migliorato le caratteristiche di risoluzione spaziale e di affidabilità , ed attualmente sono in esercizio circa 160 strumenti in tutto il mondo.

Il costante coinvolgimento in progetti di ricerca universitari, in modo particolare nel settore delle Nanotecnologie, consente di avere un contatto diretto con i problemi e le richieste di potenzialità analitica che vengono avanzati.

Questo aspetto risulta di grande impulso per lo sviluppo scientifico e tecnologico del portafoglio prodotti.

ION TOF lavora in simbiosi con TASCON, la quale attraverso dimostrazioni e servizi di analisi conto terzi permette un facile e consistente approccio alle potenzialità analitiche delle tecniche TOF SIMS e LEIS.

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/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 auxonet /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png auxonet2018-05-16 12:22:132020-03-27 15:35:45IONTOF - Sistemi SIMS & LEIS

OIPT Oxford Instruments – Sistemi di attacco e deposizione via plasma

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

OIPT Oxford Instruments – Sistemi di attacco e deposizione via plasma

Prodotti

Tutto 5 /Sistemi di attacco e deposizione via plasma - OIPT Oxford Instrument 5

Sistema PlasmaPro 80

Sistema PlasmaPro 80 RIE PECVD ICP

Sistema PlasmaPro 100

Sistema PlasmaPro 100 RIE PECVD ICP

Sistema Nanofab CVD PECVD

Sistema Nanofab CVD PECVD per nanomateriali

Sistema ALD FlexAL

FlexAL® sistema ALD remoto e termico combinato per processi su nanoscala

Sistema Ion Beam - Ionfab 300

Ionfab®300 sistema di deposizione

Partner

 

Oxford Instruments Plasma Technology offre sistemi di processo flessibili e configurabili, per processi di ultima generazione, che permettono la realizzazione precise, controllata e ripetibile di micro e nano strutture.

Questi sistemi forniscono soluzioni di processo per la crescita e la rimozione di strati di materiali su strutture a livello nanometrico.

Queste soluzioni sono basate su tecnologie di deposizione o attacco assistite da Plasma, quali PECVD, Sputtering e RIE/ICP( Plasma Enhanced Vapor Deposition e Etching) , assistite da Fasci ionici( Ion Beam Sputtering e Etching), Atomic Layer Deposition (ALD),e Hydride Vapor Phase Epitaxy(HVPE).

La gamma dei prodotti comprende sistemi compatti adatti per applicazioni in Ricerca e Sviluppo, sistemi di produzione tipo batch , sistemi multicamera ( Cluster) e multitecnica, con caricatori Cassette to Cassette per sistemi ad altra produttività.

I mercati principali a cui OIPT si rivolge sono:

  • Display ed Illuminazione (LED)
  • Elettronica e Semiconduttori
  • Energia
  • Tecnologia dell’Informazione e Comunicazione (ICT)
  • Mercati di nicchia ed emergenti

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/wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png 0 0 auxonet /wp-content/uploads/2018/05/LOGO-GAMBETTI-1-300x203.png auxonet2018-05-16 12:22:082020-03-27 15:43:53OIPT Oxford Instruments - Sistemi di attacco e deposizione via plasma

GAMBETTI – Plasmi per la modifica delle superfici

Maggio 16, 2018/in /da auxonet

GAMBETTI – Plasmi per la modifica delle superfici

Prodotti

Tutto 4 /Plasmi per la modifica delle superfici - GAMBETTI 4

FALCON RIE+

Sistema plasma da tavolo con modalità RIE e CLEANING selezionabile via software

COLIBRÌ plasma a bassa pressione

Reattore al plasma da tavolo Colibrì

TUCANO plasma a bassa pressione

Reattore al plasma da tavolo TUCANO

HERON 80 plasma con camera grande

Plasma Heron con elettrodi a doppia gabbia

Partner

 

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