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Elementi di portfolio

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Heidelberg Instruments – Litografia laser maskless e thermal probe

MPO 100

MPO 100 è uno strumento multiutente per litografia 3D e microstampa 3D

μMLA

Maskless aligner da tavolo

MLA150

Mask Aligner per la ricerca e sviluppo e piccole produzioni

DWL 66+

Eccellenza nella litografia con modalità in scala di grigi

MLA300

Maskless aligner per la produzione in serie

ULTRA

Laser Mask Writer per i semiconduttori

Partner

 

Heidelberg Instruments dal 1984 progetta, sviluppa e produce sistemi di litografia laser maskless per la fabbricazione di micro-strutture, servendo a livello globale la comunità sia nel campo della scrittura diretta che nella produzione di fotomaschere.

Le aree applicative includono MEMS, micro-ottica, advanced packaging (3DIC), IC, display a schermo piatto (FPD), micro-fluidica, sensori e altri componenti elettronici analogici e digitali. I sistemi Heidelberg Instruments sono utilizzati in più di 50 paesi nella ricerca e sviluppo, nella prototipazione rapida e produzione industriale.

Nel 2018, Heidelberg Instruments ha acquisito la Swisslitho, una giovane e innovativa azienda high-tech con esperienza nella litografia a scansione termica (STPL), una tecnologia realizzata con i loro sistemi Nanofrazor.

Insieme, Heidelberg Instruments e Swisslitho sono ora in grado di fornire ai clienti una scelta aggiuntiva di strumenti e opzioni nel campo della nano- e microlitografia.

Forge Nano – Soluzioni ALD scalabili

Athena ALD

ALD per oggetti 3D e materiali porosi per R&D

Partner

 

ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.

I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.

Cosa è il processo PALD


Cosa è il processo ALD

Alcuni partners/clienti mondiali, quali:

Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory

Sistemi etching e rivestimento superficiale

AURIX

Sistema per la preparazione di superfici e la deposizione di rivestimenti superficiali avanzati e strati protettivi per dispositivi sensibili.

XERIC

Tecnologia utilizzante Difluoruro di Xenon in fase vapore per la rimozione a secco di strati sacrificali di Silicio e di SiO2

Partner

 

Dal 2003, memsstar è uni dei principali fornitori europeo per soluzioni di attacco e deposizione per il mercato dei semiconduttori, MEMS e relativi processi di produzione tecnologica.

memsstar produce sistemi avanzati per etching, deposizione e rivestimento superficiale, utilizzati nella realizzazione di dispositivi MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), offrendo una varietà di soluzioni di processo per R&D e produzione

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Spettroscopia su scala nanometrica

 

Molecular Vista progetta, progetta e fornisce strumenti che consentono ai suoi clienti di sondare e comprendere la materia a livello molecolare attraverso la visualizzazione quantitativa. Molecular Vista è stata fondata da due veterani del settore, il Prof. Kumar Wickramasinghe (UC Irvine e precedentemente con IBM Research) e il Dr. Sung Park (co-fondatore di Park Scientific Instruments).

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Filmetrics – misura spessore e resistività dei film sottili

Sistemi di mappatura automatici

Spettrofotometri per la mappatura 3D automatica dei film sottili su più punti, per dimensioni fino a 200mm di diametro e con diverse lunghezze d'onda

Optical monitor per processi in linea

Sistemi optical monitor per la misura del rate di deposizione, spessore del film, constanti ottiche, all'interno dei sistemi di deposizione per film sottili

Profilometro ottico Profilm3D

Profilometro ottico 3D a luce bianca WLI, primo strumento al mondo ad un costo contenuto che consente di ottenere misure 3D, di rugosità, gradini, in modo semplice ed accurato

Partner

 

Filmetrics è stata fondata nel 1995 con lo scopo di rendere le misure dei film sottili facili e ad un costo competitivo. Questo nuovo concetto ha cambiato lo scenario nel mercato, in quanto prima, il costo di questa tipologia di strumenti per misura dello spessore dei film sottili

Filmetrics ha quindi introdotto un approccio rivoluzionario, attraverso un’elettronica ed un software di controllo che consentono di effettuare misure dello spessore dei film sottili in tempi brevissimi, anche da utenti inesperti che possono essere formati in pochi minuti.

Attualmente abbiamo linee di prodotti:

  • Sistemi per la misura a singolo spot
  • Sistemi per la misura con spot micro
  • Sistemi per la misura e mappatura automatica
  • Sistemi per la misura dei film optical monitor
  • Profilometria ottica

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HHV – Sistemi di deposizione per la ricerca

Partner

 

HHV Ltd fa parte di HHV di Bangalore, una delle principali aziende di tecnologia per film e vuoto sottili in India. Fondata negli anni ’60, hAV ha 50 anni di esperienza nella progettazione e produzione di sistemi e attrezzature ad alto vuoto per la ricerca e le applicazioni industriali. I prodotti HHV includono sistemi di rivestimento sottovuoto su scala industriale e di laboratorio per rivestimenti ottici, decorativi e funzionali, rivestitori di telescopi astronomici di 3,7 metri, camere di simulazione spaziale e forni sottovuoto per la produzione di metalli, oltre a sistemi PECVD e RIE per l’elettronica e la ricerca MEMS. HHV è un produttore di componenti ottici rivestiti di precisione per applicazioni speciali e personalizzate.

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HHV – Metallizzatori e Carbonatori

Partner

 

HHV Ltd fa parte di HHV di Bangalore, una delle principali aziende di tecnologia per film e vuoto sottili in India. Fondata negli anni ’60, hAV ha 50 anni di esperienza nella progettazione e produzione di sistemi e attrezzature ad alto vuoto per la ricerca e le applicazioni industriali. I prodotti HHV includono sistemi di rivestimento sottovuoto su scala industriale e di laboratorio per rivestimenti ottici, decorativi e funzionali, rivestitori di telescopi astronomici di 3,7 metri, camere di simulazione spaziale e forni sottovuoto per la produzione di metalli, oltre a sistemi PECVD e RIE per l’elettronica e la ricerca MEMS. HHV è un produttore di componenti ottici rivestiti di precisione per applicazioni speciali e personalizzate.

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ULVAC – Ellissometri spettroscopici

Ellissometro spettroscopico 3000A

Ellissometro spettroscopico in versione da banco con stage motorizzato in X,Y,R per wafer da 300 mm, consente di effettuare mappature 2D di un wafer intero (da 300mm) in poco più di due minuti.

Partner

 

ULVAC Inc. è una nota Società Giapponese Multinazionale che opera, sindal 1952, nel settore del Vuoto e delle tecnologie ad esso correlate.
Rimane forse la solo multinazionale che produce tutta la filiera del vuoto “in verticale”, ovvero dalla singola pompa sino ad un impianto completo di deposizione per films sottili o di etching per il mercato  dei semiconduttori,  per i produttori di FPD, impianti a film sottile per ottica ecc..

La Gambetti Kenologia collabora con ULVAC per quanto concerne la ellissometria spettroscopica,  promuovendo sul mercato Italiano un interessante ellissometro della serie UNECS, molto innovativo e di semplice utilizzo rispetto agli strumenti tradizionali.

Commercializziamo inoltre la gamma ULVAC dei cercafughe ad Elio e sniffer della serie HELIOT, che hanno alcune caratteristiche che li differenziano rispetto agli strumenti attualmente sul mercato.

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KLA – Profilometri a stilo, confocali ed interferometrici

Profilometro ottico Profilm3D

Profilometro ottico 3D a luce bianca WLI, primo strumento al mondo ad un costo contenuto che consente di ottenere misure 3D, di rugosità, gradini, in modo semplice ed accurato

Partner

 

KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.

Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.

KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.

Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.

Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.

La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.

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KLA – Nanoindentatori

Nanoindentatore InSEM HT

Nanoindentatore InSEM I, II ed HT, sistemi di nanoindentazione per l'analisi delle propietà meccaniche dei materiali all'interno dei SEM, SEM FIB, anche nella versione ad 800°C.

Nanoindentatore per sem fib afm

NanoFlip è un nanoindentatore per analisi in situ all'interno di strumenti come SEM, FIB SEM, AFM, profilometri ottici e microscopi ottici.

Nanoindentatore iMicro

Nanoindentatore iMicro per test nanomecanici ad alte prestazioni di durezza, modulo elastico su campioni soffici e non per l'industria e la ricerca.

Nanoindentatore iNano

iNano è il nanoindentatore più versatile e performante sul mercato, ripetibilità, accuratezza e precisione ad un prezzo alla portata del vostro laboratorio

Nanoindentatore G200X

Nanoindentatore G200 accurato, flessibile e user-friendly con forze di carico fino a 10N e risoluzione di 3 nN

Partner

 

KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado  di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.

Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.

KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.

Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.

Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.

La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.

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