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Polyteknik AS è un produttore di sistemi PVD con un approccio innovativo e di servizio. Con oltre 25 anni di attività, un elenco di referenze a livello mondiale e un’eccellente piattaforma tecnologica, Polyteknik AS è diventato un partner apprezzato nell’industria dei film sottili.
Siamo la scelta migliore per voi, quando il vostro film sottile è importante
Heidelberg Instruments dal 1984 progetta, sviluppa e produce sistemi di litografia laser maskless per la fabbricazione di micro-strutture, servendo a livello globale la comunità sia nel campo della scrittura diretta che nella produzione di fotomaschere.
Le aree applicative includono MEMS, micro-ottica, advanced packaging (3DIC), IC, display a schermo piatto (FPD), micro-fluidica, sensori e altri componenti elettronici analogici e digitali. I sistemi Heidelberg Instruments sono utilizzati in più di 50 paesi nella ricerca e sviluppo, nella prototipazione rapida e produzione industriale.
Nel 2018, Heidelberg Instruments ha acquisito la Swisslitho, una giovane e innovativa azienda high-tech con esperienza nella litografia a scansione termica (STPL), una tecnologia realizzata con i loro sistemi Nanofrazor.
Insieme, Heidelberg Instruments e Swisslitho sono ora in grado di fornire ai clienti una scelta aggiuntiva di strumenti e opzioni nel campo della nano- e microlitografia.
ForgeNano produce sistemi e processi di rivestimento estremamente uniformi a livello atomico ALD , con materiali avanzati, su polveri (Particles ALD), oggetti 3D e substrati piani quali (wafers, vetri, o altro) .
Attraverso una serie di sistemi ALD di propria progettazione e realizzazione, basati su propri brevetti innovativi, rendono ForgeNano il leader tecnologico nel settore dell’ingegneria delle superfici e dei nano rivestimenti, oltre a poter offrire un servizio conto terzi di rivestimenti ALD e PALD.
La gamma dei prodotti varia da sistemi per ricerca e sviluppo, facilmente scalabili a sistemi per produzione nel settore dei semiconduttori, displays e del trattamento di polveri con elevate quantità giornaliere.
Le polveri rivestite con la tecnica di Forgenano migliorano nettamente le loro caratteristiche e quelle dei prodotti o dei rivestimenti realizzati con le polveri stesse, in svariati settori industriali avanzati , quali , ad esempio : stampa 3D, produzione di batterie agli Ioni di Litio, catalisi , ecc.ecc.
I substrati piani o wafers trattabili nei sistemi ALD FN sono utilizzati ad esempio nella realizzazione di dispositivi MEMS, memorie DRAM, dispositivi RF, dispositivi di potenza, con possibilità di rivestimenti su strutture con rapporto di aspetto fino a 1000:1 e prestazioni nettamente superiori a rivestimenti realizzati con tecniche tradizionali quali CVD o PVD, ad esempio.
Cosa è il processo PALD
Cosa è il processo ALD
Alcuni partners/clienti mondiali, quali:
Volkswagen, LG Corporation, Mitsui Kinzoku, University of Maryland, Oakridge National Laboratory ,Argonne National Laboratory
Dal 2003, memsstar è uni dei principali fornitori europeo per soluzioni di attacco e deposizione per il mercato dei semiconduttori, MEMS e relativi processi di produzione tecnologica.
memsstar produce sistemi avanzati per etching, deposizione e rivestimento superficiale, utilizzati nella realizzazione di dispositivi MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), offrendo una varietà di soluzioni di processo per R&D e produzione
Molecular Vista progetta, progetta e fornisce strumenti che consentono ai suoi clienti di sondare e comprendere la materia a livello molecolare attraverso la visualizzazione quantitativa. Molecular Vista è stata fondata da due veterani del settore, il Prof. Kumar Wickramasinghe (UC Irvine e precedentemente con IBM Research) e il Dr. Sung Park (co-fondatore di Park Scientific Instruments).
Il futuro della scienza dei materiali è nano. Molti nuovi prodotti si basano su nanomateriali e utilizzano le loro proprietà specifiche per ottenere nuove funzionalità o migliorate. Ma come facciamo a sapere che il nanomateriale è esattamente come lo vogliamo?
L’imaging su scala nanometrica non è sufficiente; ciò che è richiesto è l’imaging chimico su nanoscala. La microscopia photo induced force (PiFM) è una potente tecnica AFM-IR per ottenere spettri infrarossi con una risoluzione inferiore a 10 nm. Gambetti Kenologia offre uno strumento PiFM progettato da Molecular Vista, che può anche essere configurato per eseguire la scansione a dispersione microscopia ottica in campo vicino (s-SNOM).
Nel nanoIR o AFM-IR, la punta dell’AFM esegue la scansione del campione mentre un laser a infrarossi eccita il campione per facilitare la spettroscopia IR. Questo fa si, che sia la topografia che gli spettri chimici sono registrati ad alta risoluzione. Esistono diversi modi per misurare gli spettri di assorbimento IR attraverso la punta AFM. In PiFM, la forza fotoindotta è il risultato di un’attrazione di forza dipolo-dipolo tra la punta per l’imaging e il campione quando illuminato con una sorgente di luce monocromatica e coerente.
Attraverso l’imaging a più lunghezze d’onda IR, corrispondenti ai picchi di assorbimento di diverse specie chimiche, PiFM ha la capacità di mappare spazialmente modelli su scala nanometrica dei singoli componenti chimici. Di seguito è mostrato un diagramma schematico di PiFM:
Rispetto alle tecniche concorrenti per AFM-IR, la microscopia a forza fotoindotta presenta numerosi vantaggi. Ad esempio, nelle tecniche basate su AFM foto-termiche, l’espansione termica nel campione può ridurre la risoluzione spaziale e la sensibilità superficiale. Per le tecniche AFM-IR di tipo scattering SNOM, la risoluzione spaziale e la sensibilità superficiale sono buone, ma permangono importanti sfide nell’interpretazione delle immagini, nell’estrazione di informazioni utili del fondo (background) e nella presenza di artefatti nell’immagine ottica.
PiFM ha un eccellente rapporto segnale-rumore e un piccolo volume di interazione, che porta ad una maggiore risoluzione spaziale. È ad esempio possibile risolvere i diversi blocchi chimici di un campione di copolimero a blocchi PS-b-PMMA con un tono di circa 22 nm (l’aumento del segnale / risoluzione misura meno di 7 nm).
L’eccellente sensibilità superficiale è dimostrata nella misurazione degli origami del DNA riportata di seguito. Soprattutto l’immagine a 1000 cm-1 che evidenzia la Mica mostra che la tecnica non misura la Mica sotto la patch di DNA a 3 nm.
Infine, PiFM non soffre di interferenze dal fondo (background) e mostra una buona correlazione con spettri IR convenzionali di materiali sfusi senza effetti di spessore del campione.
Un modo efficace per analizzare campioni sconosciuti è l’imaging iperspettrale AFM-IR (hyPIR), che fornisce immagini di tutte le modalità risonanti in una struttura con una singola scansione. Una griglia di 128 x 128 pixel può essere prodotta in circa un’ora.
Usando la microscopia a forza indotta da foto a infrarossi sarai in grado di acquisire spettri IR mentre mapperai contemporaneamente la topografia. Le lunghezze d’onda infrarosse specifiche per diverse entità chimiche risolvono la distribuzione su scala nanometrica di ciascuna specie chimica in diversi sistemi multifase e multicomponente.
Ad esempio, la tecnica l’iperspettrale a infrarossi PiFM ti darà una rapida idea sulla composizione chimica dei film fotovoltaici di perovskite, che hanno una struttura di dominio complicata. La scansione mostra diverse fasi chimiche e transizioni chimiche attraverso i limiti di fase.
Le molecole di origami di DNA (~ 3 nanometri di altezza) depositate sulla mica vengono prontamente riprodotte mediante topografia e PiFM. Il segnale delle molecole di DNA mostra chiaramente la modalità vibrazionale dell’ammide I.
Per molte applicazioni per semiconduttori, PiFM è una tecnica applicabile, tra l’altro, per la visualizzazione e l’analisi della deposizione selettiva di area (ASD / Immagine in basso), deformazione locale, sezione trasversale di un trench, cross section di uno stack di films multistrato, il mechanical polishing (CMP), strati conduttivi sepolti e analisi dei difetti.
Dato che il futuro della scienza dei materiali è nano, la microscopia a forza fotoindotta (AFM-IR) è uno strumento indispensabile per analizzare la topografia e la composizione chimica di nuovi materiali evidenziandone i dettagli.
Filmetrics è stata fondata nel 1995 con lo scopo di rendere le misure dei film sottili facili e ad un costo competitivo. Questo nuovo concetto ha cambiato lo scenario nel mercato, in quanto prima, il costo di questa tipologia di strumenti per misura dello spessore dei film sottili
Filmetrics ha quindi introdotto un approccio rivoluzionario, attraverso un’elettronica ed un software di controllo che consentono di effettuare misure dello spessore dei film sottili in tempi brevissimi, anche da utenti inesperti che possono essere formati in pochi minuti.
Attualmente abbiamo linee di prodotti:
KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.
Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.
KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.
Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.
Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.
La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.
KLA è stata costituita nel maggio del 1997 e nasce dalla fusione di due società (KLA Instruments e Tencor Instruments) leader nel settore della strumentazione di caratterizzazione nell´industria dei semiconduttori. Con un fatturato complessivo di quasi 1 miliardo di dollari e più di 4800 dipendenti, KLA è in grado di offrire una ampia gamma di sistemi di controllo con una produttività senza eguali.
Fondata nel 1976 ed accreditata come azienda pionieristica nel proporre soluzioni ad alta produttività nel mercato dei semiconduttori, KLA, nel 1978, ha iniziato a realizzare sistemi di ispezione che hanno ridotto il tempo di verifica delle fotomaschere da 8 ore a 15 minuti. La società si è quotata in borsa nel 1980 ed ha ampliato molto velocemente la gamma di prodotti per il controllo dei wafers. Due anni più tardi la società è entrata anche nel settore della metrologia dei wafer con strumenti di misura ottici.
KLA ha poi continuato a sviluppare le sue lineee di prodotti, progettando un software di analisi per l´integrazione dei dati delle ispezioni e delle misure. E´ stata la prima società del settore ad offrire un servizio di consulenza tecnica per fornire al cliente soluzioni per il miglioramento della produttività attraverso i propri sistemi di ispezione. Al momento della fusione con Tencor, KLA aveva un fatturato di 695 milioni di dollari e 2500 impiegati in tutto il mondo.
Anche la Tencor fu fondata nel 1976 proponendo Alpha-Step, un profilometro per la caratterizzazione superficiale. Alpha-Step ha fornito un miglioramento significativo nella misura dello spessore dei film sottili che fino ad allora era considerato un parametro critico.
Nel 1984, la società ha introdotto il primo Surfscan basato sulla tecnologia a scansione laser, per la misura della contaminazione superficiale dei wafer, diventato ben presto uno standard nel mercato dei semiconduttori. Negli anni 90, Tencor ha ampliato la sua linea di prodotti inserendo sistemi per l´analisi dei difetti. Nel 1993 ha acquisito la società Prometrix, leader nella produzione di sistemi ottici per la misura dei film sottili. Al momento della fusione con KLA, Tencor aveva un fatturato di 403 milioni di dollari e 1400 impiegati in tutto il mondo.
La Gambetti Kenologia ha rappresentato la società Tencor sino alla fusione nel 1997 con KLA. Nel corso dell´anno KLA ha aperto in Italia un ufficio dedicato ai clienti del mercato dei semiconduttori mentre la Gambetti Kenologia, per quanto riguarda il mercato italiano, ha continuato a distribuire in esclusiva la linea di profilometria e caratterizzazione.
Park Systems si sforza ogni giorno di essere all’altezza dello spirito innovativo dei suoi inizi. Nel corso della nostra lunga storia, abbiamo onorato il nostro impegno nel fornire gli AFM più accurati e allo stesso tempo molto facili da usare, con caratteristiche rivoluzionarie come la modalità True Non-Contact™ e molti software automatizzati. Non ci accontentiamo semplicemente di basarci sul nostro successo passato. Tutti i nostri prodotti sono progettati con la stessa cura e creatività che è entrata agli inizi, permettendoti di concentrarti su come ottenere risultati senza preoccuparti dell’integrità dei tuoi strumenti.
Dopo oltre un quarto di secolo di continua crescita e innovazione dei prodotti, Park ha la più lunga storia di business degli AFM nel settore. L’azienda ha sviluppato una rete di vendita globale di oltre 30 paesi e ha più di 1000 AFM in uso in tutto il mondo. È l’azienda AFM in più rapida crescita con più di 120 dipendenti a tempo pieno dedicati alla produzione degli AFM più accurate e facili da usare.
Commerciale
sales@gambetti.it
Assistenza tecnica
service@gambetti.it
Prodotti usati
occasioni@gambetti.it