VLSI Standard

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NUTRI I TUOI STANDARD DI MISURAZIONE SPESSORE FILM SOTTILI. Utilizza gli standard spessore film sottili (FTS e NFTS) per verificare l’accuratezza di ellissometri a lunghezza d’onda singola o spettroscopici (SWE o SE) e riflettometri. Gli standard film thickness ti permettono di monitorare la stabilità a lungo termine degli strumenti a supporto dei programmi di accreditamento ISO e TS, ed eliminare gli effetti indesiderati della contaminazione molecolare aerotrasportata (AMC) sulle tue misurazioni.

Standard Spessore Ossido di Silicio (FTS)

Gli standard ossido silicio spessore di VLSI Standards consistono in un wafer di silicio con un pattern uniforme di ossido di silicio cresciuto termicamente sulla superficie lucidata. Il wafer ossido silicio soddisfa tutte le specifiche SEMI Standard secondo M1-9X per Wafer di Silicio Monocristallino Lucidato.

Caratteristiche Standard Ossido Silicio:

• Area certificata: 10 mm di diametro al centro del wafer
• Dimensioni wafer: 100, 125, 150, 200 e 300 mm
• Spessori disponibili: 2, 4,5, 7,5, 12, 25, 50, 100, 200, 400, 675 e 1010 nm
• Indice di rifrazione: Fisso a 1,46
• Modello: Singolo strato con parametri NIST

Standard Spessore Nitruro di Silicio (NFTS)

Gli standard nitruro silicio ellissometro consistono in un wafer di silicio con film uniforme di nitruro di silicio depositato PECVD sulla superficie lucidata. Il wafer nitruro silicio è conforme alle specifiche SEMI Standard M1-9X.

Caratteristiche Standard Nitruro Silicio:

• Area certificata: 10 mm di diametro dal centro del wafer
• Dimensioni wafer: 100, 125, 150 e 200 mm
• Spessori disponibili: 20, 90, 120 e 200 nm
• Certificazione: Ellissometro spettroscopico 400-700 nm
• Calibrazione: Standard NIST SRM 2532 e 2533

Applicazioni Standard Film Thickness

Strumenti Supportati:

• Ellissometri a lunghezza d’onda singola (SWE)
• Ellissometri spettroscopici (SE)
• Riflettometri di precisione
• Sistemi metrologici avanzati

Settori di Utilizzo:

• Industria Semiconduttori – Controllo processo e QC
• Ricerca & Sviluppo – Caratterizzazione materiali
• Laboratori Metrologici – Certificazione strumenti
• Produzione MEMS – Controllo spessore film

Specifiche Tecniche Complete

Standard Ossido Silicio (FTS):

• Tracciabilità: Unità SI tramite NIST
• Crescita: Termica controllata
• Uniformità: <1% nell'area certificata
• Rugosità: <0.5 nm RMS

Standard Nitruro Silicio (NFTS):

• Tracciabilità: Unità SI tramite NIST
• Deposizione: PECVD uniforme
• Range spettrale: 400-700 nm
• Ripetibilità: <0.1 nm

Vantaggi Certificazione NIST

1. Accuratezza garantita con tracciabilità SI
2. Conformità ISO/TS per accreditamento laboratori
3. Stabilità long-term per monitoraggio strumenti
4. Eliminazione AMC effects
5. Calibrazione professionale ellissometri e riflettometri

Supporto Tecnico e Certificazione

Ogni standard spessore film sottili viene fornito con Certificato di Calibrazione completo che riporta:

• Valore spessore certificato con incertezze
• Parametri ottici di riferimento
• Condizioni di misurazione e tracciabilità
• Procedure di conservazione e manipolazione