Che Cos’è la Deposizione Laser Pulsata (PLD)

La Deposizione Laser Pulsata (PLD) è una tecnica di punta per la creazione di film sottili, nota per la sua versatilità e precisione. Utilizzata in vari settori, dalla ricerca sui materiali all’elettronica avanzata, la PLD si distingue per la sua capacità di trasferire in modo impeccabile la composizione del materiale target direttamente nel film finale.

Questa tecnologia, resa celebre oltre 30 anni fa dal Dr. Venkatesan e dal suo team per la sintesi di film superconduttori, è diventata il metodo preferito per la deposizione di materiali con composizioni complesse.

I Vantaggi Unici della Tecnologia PLD

La PLD si differenzia dalle altre tecniche di deposizione grazie a caratteristiche che offrono flessibilità e controllo senza pari:

• Trasferimento Stechiometrico: La PLD garantisce che la composizione chimica del target sia replicata fedelmente nel film sottile, una qualità fondamentale per materiali complessi.
• Prototipazione Rapida: La sua efficienza la rende la scelta ideale per la prototipazione veloce di nuovi materiali.
• Controllo Esterno e Flessibilità: Essendo il laser una fonte di energia esterna alla camera di deposizione, la PLD permette di operare in un’ampia gamma di pressioni (da 10−10 Torr a 500 Torr). Questo controllo avanzato, unito alla gestione della temperatura del substrato, consente di sintetizzare una vasta gamma di nanostrutture e interfacce con precisione a livello atomico.

Grazie a queste capacità, la PLD è lo strumento perfetto per ricercatori e ingegneri che mirano a creare film sottili con funzionalità uniche e innovative.

Sistemi PLD

Pionieer 120 PLD	Pionieer 120 PLD Advanced
Pionieer 180 PLD	Pionieer 180  Laser MBE/PLD
PLD Laser combinata	Pionieer 180 MAPLE – PLD
PLD con assistenza ionica	PLD per wafer da 8″