Le Sorgenti Ioniche Gridded KDC rappresentano l’evoluzione tecnologica delle tradizionali sorgenti ioniche Kaufman, progettate per applicazioni industriali e di ricerca che richiedono fasci ionici di alta qualità e stabilità eccezionale.
Caratteristiche Principali
Tecnologia Self-Aligned OptiBeam™
- Griglie autoallineanti brevettate che eliminano la necessità di procedure di allineamento manuale
- Maggiore ripetibilità del fascio e durata estesa delle griglie
- Riduzione dei tempi di manutenzione e massimizzazione della corrente ionica
Specifiche Tecniche Avanzate
- Range energetico ionico: 100-1200 eV (configurazione standard)
- Alimentatori switching mode moderni per maggiore efficienza
- Compatibilità con gas inerti e reattivi (O₂, N₂, idrocarburi)
- Configurazione doppio catodo per applicazioni con gas reattivi
Gamma Prodotti KDC
KDC10 – Soluzione Compatta ed Economica
- La più piccola e conveniente della serie KDC
- Corrente ionica: fino a 10mA
- Ideale per sistemi da vuoto desktop e laboratori di ricerca
- Applicazioni: pre-pulizia in-situ, deposizione sputter a fascio ionico, etching ionico
KDC40 – Versatilità e Prestazioni
- Upgrade della popolare sorgente Kaufman 3cm
- Corrente ionica: fino a 120mA
- Pattern a griglia più ampio e costruzione robusta
- Ottica ionica autoallineante a tre griglie
KDC75 – Compattezza e Potenza
- Diametro sorgente: 14cm, montaggio su flangia CF 8″
- Corrente ionica: fino a 250mA
- Griglie sagomate profonde per installazioni ravvicinate
- Ideale per piattaforme di camera piccole-medie
KDC100 – Affidabilità Industriale
- Sorgente di media dimensione con comprovato track record
- Vasta base installata nella produzione ad alto volume
- Eccellente per strutture multistrato metalliche sottili
- Configurazione dual-filament switching cathode
KDC160 – Massima Potenza
- La più grande e potente della linea KDC
- Corrente ionica: fino a 800mA
- Operazione senza raffreddamento ad acqua
- Installazioni di successo in tutti i processi tipici a fascio ionico
Applicazioni Industriali
Deposizione Assistita da Fascio Ionico (IBAD)
- Evaporazione termica e a fascio elettronico
- Controllo della densità e stress dei film
- Miglioramento dell’adesione e trasmissione ottica
Processi di Pre-pulizia e Modificazione Superficiale
- Pre-pulizia in-situ per sputtering ed evaporazione
- Modificazione superficiale con precisione nanometrica
- Etching con controllo della profondità critica
Settori di Applicazione
- Fabbricazione di dispositivi ottici e fotonici
- Produzione di dispositivi magnetici e microelettronici
- Ricerca e sviluppo materiali avanzati
- Preparazione campioni per microscopia
Vantaggi Competitivi
- Qualità del Fascio: Fasci ionici stabili e di alta qualità per processi critici
- Manutenzione Ridotta: Tecnologia self-aligned e componenti robusti
- Flessibilità Operativa: Controllo indipendente di energia e corrente ionica
- Pacchetto Completo: Include tutti i componenti necessari per installazione e funzionamento
Alimentatori per sorgenti ioniche