Ordini significativi dei nostri sistemi GaN ALE e ALD Oxford Instruments riceve ordini per sistemi GaN ALE e ALD da diverse importanti fonderie giapponesi di elettronica di potenza e RF
Oxford Instruments Plasma Technology annuncia di aver ricevuto ordini significativi per la deposizione atomica al plasma (ALD) e l’incisione atomica dello strato (ALE) per la produzione di dispositivi HEMT GaN da diverse fonderie giapponesi leader di mercato. I sistemi supporteranno i mercati in forte crescita dell’elettronica di potenza e della radiofrequenza GaN, con le applicazioni […]
