Che cosa è la deposizione dello strato atomico delle particelle PALD

Particle Atomic layer Deposition (PALD) è un processo di deposizione atomica dello strato che utilizza una tecnica di fase di vapore utilizzata per depositare film sottili su un substrato. Il processo di PALD (e ALD) comporta che la superficie di un substrato veng esposta a precursori alternati, che non si sovrappongono ma vengono introdotti in sequenza.

Ad ogni impulso alternato, la molecola precursore reagisce con la superficie in modo autolimitante, questo assicura che la reazione si fermi una volta che tutti i siti reattivi sul substrato sono stati utilizzati. Un ciclo ALD completo è determinato dalla natura dell’interazione precursore-superficie. Il ciclo ALD può essere eseguito più volte per aumentare gli strati del film sottile quindi il suo spssore, a seconda della necessità.

Il processo di PALD viene spesso eseguito a temperature basse, il che è utile quando si lavora con substrati fragili, e alcuni precursori termicamente instabili possono ancora essere impiegati con ALD finché il loro tasso di decomposizione è lento.

Una vasta gamma di materiali può essere depositata utilizzando PALD, tra cui ossidi, metalli, solfuri e fluoruri, e c’è una vasta gamma di proprietà che questi rivestimenti che si possono fornire, a seconda dell’applicazione.

Il processo PALD è ampiamente utilizzato in quanto fornisce nano strati ultrasottili in modo estremamente preciso su una varietà di substrati, anche su particelle di dimensione sia micrometrica che sub-micrometrica.  I nano-strati deposti con PALD sono per natura conformi e senza difetti e fori.

Applicazioni per la deposizione di strati atomici delle particelle

La gamma applicativa di deposizione di strati atomici è vasta, ed è per questo che è diventato uno strumento popolare per sviluppare nano rivestimenti e film sottili.

Una delle applicazioni più popolari è l’uso di film sottili ALD è nell’industria manifatturiera dei semiconduttori dove l’elettronica diventa sempre più miniaturizzata. I film sottili e rivestimenti prodotti utilizzando ALD aiutano a rendere questi prodotti ancora più piccoli e mantenere l’alto standard di prestazioni che viene chiesta nell’ elettronica di consumo.

L’uso di Particelle ALD per depositare nano-rivestimenti di ossido metallico semplici e complessi intorno a ogni piccola particella che costituisce il rivestimento in polvere sugli elettrodi anogeni e catodi nelle batterie agli ioni di litio è sempre più popolare in quanto è stato dimostrato utile per migliorare la durata della batteria, aumentare la capacità della batteria e migliorare significativamente la sicurezza. L’aumento dell’uso di ALD nella produzione di batterie agli ioni di litio è anche in gran parte dovuto al brevetto e alla proprietà intellettuale di Forge Nano per il rivestimento ALD su particelle in un’economia di scala, portandolo fuori dal laboratorio di ricerca e rendendolo un processo commercialmente fattibile per i produttori di batterie.

I catalizzatori Nano rivestiti sono un’altra applicazione del PALD. Questi rivestimenti possono provocare catalizzatori termicamente più stabili, sono usati per modificare le proprietà chimiche o fisiche del catalizzatore o personalizzare la selettività del catalizzatore in base alle condizioni di processo.

La deposizione di strati atomici sta guadagnando popolarità anche nell’industria biomedica, soprattutto con l’aumento dei materiali nanoporosi utilizzati nella somministrazione di farmaci, ingegneria dei biomateriali, e nell’implantologia.

Forge Nano ha sviluppato un processo di deposizione di strati atomici unico e commercialmente fattibile per creare nanorivestimenti di precisione sulle particelle e siamo orgogliosi di aiutare i nostri clienti a utilizzare la tecnologia per migliorare i loro prodotti e servizi.  Se avete bisogno di informazioni sui nostri processi ALD o nanorivestimenti sulle particelle vi preghiamo di contattarci.