MKS ENI® produce una vasta gamma di generatori RF per plasmi, di tipo DC, DC pulsata e reti d’adattamento destinati ai mercati della produzione di semiconduttori, deposizione film sottili e ottici, e della produzione di supporti magnetici.
Caratteristiche peculiari di questi prodotti sono un’elevata densità ed un ampio margine di potenza, un’ottima stabilità, ed un’elevata affidabilità, caratteristiche che rendono questi generatori adatti all’utilizzo in applicazioni critiche.
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