Il sistema IONTOF M6 Plus rappresenta la frontiera tecnologica nella caratterizzazione nano, combinando in un’unica piattaforma le tecniche TOF-SIMS (Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry) e SPM (Scanning Probe Microscopy) per analisi chimiche tridimensionali di precisione.
Tecnologie SPM Integrate: AFM, MFM e KPFM
Microscopia a Forza Atomica (AFM)
La microscopia a forza atomica AFM del sistema M6 Plus offre:
Risoluzione topografica nanometrica
Modalità di contatto e non-contatto
Analisi morfologica ad alta precisione
Scansioni su aree fino a 80 x 80 µm
Microscopia a Forza Magnetica (MFM)
La microscopia a forza magnetica MFM permette:
Caratterizzazione delle proprietà magnetiche locali
Studio di domini magnetici a livello nanometrico
Analisi di materiali ferromagnetici e antiferromagnetici
Risoluzione spaziale sub-100 nm
Microscopia KPFM (Kelvin Probe Force Microscopy)
La microscopia KPFM Kelvin probe fornisce:
Mappatura del potenziale di superficie
Caratterizzazione elettronica dei materiali
Analisi delle proprietà elettrostatiche
Studio delle interfacce elettroniche
Spettrometria di Massa TOF-SIMS Avanzata
La spettrometria massa ioni secondari TOF-SIMS del M6 Plus garantisce:
Prestazioni Analitiche Superiori
Risoluzione laterale fino a 70 nanometri
Range di massa esteso (0-10.000 amu)
Sensibilità a livello ppm-ppb
Analisi di tutti gli elementi della tavola periodica
Capacità di Profilazione in Profondità
Risoluzione in profondità sub-nanometrica
Analisi stratificata dei materiali
Profili chimici tridimensionali
Monitoraggio dell’erosione controllata
Analisi Superficie Tridimensionale In-Situ
L’innovativa combinazione di TOF-SIMS e SPM nel sistema M6 Plus abilita l’analisi superficie tridimensionale in-situ, offrendo:
Vantaggi della Correlazione Diretta
Informazioni chimiche e topografiche simultanee
Correzione degli artefatti topografici
Rappresentazione 3D accurata della composizione
Workflow di analisi integrato
Modalità Surface Profiler Unica
Scansioni SPM multiple concatenate
Misurazione di crateri di erosione estesi
Determinazione precisa della rugosità superficiale
Tempi di acquisizione ottimizzati
Applicazioni della Strumentazione Scientifica Avanzata
Settore Semiconduttori
La strumentazione scientifica avanzata M6 Plus eccelle nell’industria dei semiconduttori per:
Rilevamento e quantificazione di metalli traccia
Controllo qualità dei film sottili
Analisi di interfacce critiche
Caratterizzazione di dispositivi nanometrici
Ricerca sui Polimeri
Studio della separazione di fase
Analisi di rivestimenti funzionali
Caratterizzazione di nanocompositi
Controllo della dispersione di additivi
Catalisi e Energia
Caratterizzazione dello strato atomico superficiale
Studio di catalizzatori supportati
Analisi di materiali per batterie
Caratterizzazione di celle a combustibile
Elettronica Organica e Biologia
Imaging molecolare ad alta risoluzione
Studio di transistor organici (OTFT)
Caratterizzazione di biomolecole
Analisi di interfacce biocompatibili
Specifiche Tecniche del Sistema M6 Plus
Prestazioni SPM
Range di scansione: 80 x 80 x 10 µm³
Risoluzione encoder: 10 nm
Velocità di movimento: fino a 10 mm/s
Stabilità posizionale sub-micrometrica
Configurazione Avanzata
5 fasci ionici primari integrati
Cannone a elettroni per neutralizzazione
Sistema di estrazione ottimizzato
Detector ad alta efficienza
Software di Controllo SurfaceLab 7
Interfaccia utente intuitiva
Elaborazione dati avanzata
Rendering volumetrico 3D
Analisi multivariata integrata
Vantaggi Competitivi per la Caratterizzazione Nano
Il sistema IONTOF M6 Plus si distingue nel mercato della caratterizzazione nano per:
Correlazione Diretta: Unico strumento che combina analisi chimica e fisica nello stesso ambiente
Precisione Nanometrica: Risoluzione spaziale leader del settore
Versatilità Applicativa: Adatto a materiali organici, inorganici, conduttivi e isolanti
Workflow Integrato: Dalla preparazione all’analisi in un’unica piattaforma
Supporto Scientifico: Esperienza decennale nel settore dell’analisi superficiale
Conclusioni
Il sistema IONTOF M6 Plus rappresenta l’evoluzione tecnologica nella caratterizzazione nano, offrendo capacità analitiche senza precedenti attraverso l’integrazione di TOF-SIMS e tecniche SPM avanzate. La combinazione di microscopia a forza atomica AFM, microscopia a forza magnetica MFM e microscopia KPFM Kelvin probe con spettrometria di massa ad alta risoluzione apre nuove frontiere nella ricerca scientifica e nel controllo qualità industriale.