Generatori Ozono MKS Instruments

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I generatori ozono MKS Instruments rappresentano lo standard industriale per generazione ozono ultra-puro e sistemi delivery modulari in applicazioni semiconduttori e thin film. Le serie SEMOZON® e LIQUOZON® offrono soluzioni complete dalla generazione gas ozono ad alta concentrazione fino a sistemi acqua ozonizzata per pulizia wafer, deposizione ALD/CVD e condizionamento superfici in ambienti cleanroom critici.

Serie SEMOZON®: Generazione Gas Ozono Ultra-Puro

AX8415 Ultra High Concentration: Prestazioni Superiori

Il SEMOZON AX8415 converte ossigeno in ozono ad altissima concentrazione >400 g/Nm³ (27.1 wt% a 5°C) per applicazioni leading-edge semiconduttori, flat panel display e fotovoltaici. La tecnologia brevettata con design celle patentato elimina formazione composti NOx, producendo ozono estremamente pulito per crescita ossidi, rimozione photoresist e multiple applicazioni pulizia.

Specifiche prestazioni:

• Concentrazione ozono fino a 425 g/Nm³
• Flusso O₂ da 2.5 a 50 slm per flessibilità processo
• Operazione con/senza aggiunta azoto come dopante
• Sostituzione diretta AX8407 con performance superiori

AX8410 PRIME: Next Generation Technology

Il SEMOZON AX8410 PRIME high concentration, ultra high flow converte ossigeno attraverso scarica elettrica silenziosa a flussi fino a 80 slm. L’incremento flow rate e concentrazione superiore posiziona il generatore per soddisfare requisiti ozono processi semiconduttori next generation con efficienza energetica ottimizzata.

AX8585 Stand-Alone: Sistema Integrato

Il sistema AX8585 stand-alone è progettato attorno al generatore AX8410 PRIME per fornire generazione e delivery ozono alta concentrazione ultra-pulito. Completamente configurabile fino a 4 canali indipendenti per supportare multiple camere o strumenti contemporaneamente, con flow rates fino a 200 slm e concentrazioni fino a 375 g/Nm³.

Serie LIQUOZON®: Acqua Ozonizzata Ultra-Pura

VariO3: Versatilità Multi-Applicazione

Il LIQUOZON VariO3 fornisce ozono alta purezza in acqua ultrapura per applicazioni rimozione contaminanti e condizionamento superfici via wet clean o rinsing. L’alto potenziale redox dell’ozono causa conversione rapida verso ossigeno, risultando in alternativa ambientalmente friendly ai processi chimici tradizionali.

Configurazioni disponibili:

• Low concentration: fino a 90 ppm DI-O₃ @ 2 L/min, 15 ppm @ 60 L/min
• Standard: massimo 31 ppm DI-O₃ @ 60 L/min con performance mid-range potenziata
• Electronic Thin Film: fino a 140 L/min DI-O₃ con concentrazioni 25-90 ppm

LoopO3: Single Wafer Excellence

Il LIQUOZON LoopO3 ultra-compatto è la sorgente più compatta per wet wafer processing con ozono, includendo pompa per recirculation loop. Cicli veloci fino a 10 L/min DI-O₃ a concentrazioni fino a 62 ppm, specifiche ideali per applicazioni single wafer low-flow come organic clean, water mark removal e oxide growth.

Vantaggi distintivi:

• Controllo concentrazione closed-loop
• Ricircolazione DI water per risposta veloce
• Zero consumo UPW durante idle mode
• MTBF >20,000 ore per affidabilità superiore

HeliO3: Applicazioni Solari

Il LIQUOZON HeliO3 è specializzato per applicazioni solari come pulizia, condizionamento superfici e oxide growth. Sorgente potente per wet processing con ozono e/o miscele chimiche come acidi con ozono, comprendendo Gas Module autocontenuto e Wet Module integrato nel TOOL cliente.

O3CS Compact: Sistema Integrato

Il sistema O3CS compact utilizza ossigeno Grade 6 per generare ozono puro, permettendo creazione film thin alta qualità per industria semiconduttori. L’ozono reagisce con ampia gamma gas precursori generando film ossidi Al₂O₃, ZrO₂, HfO₂ e La₂O₃ via Atomic Layer Deposition (ALD). Tecnologia celle generatore brevettata MKS, combinata con materiali alta purezza e livelli gas dopante molto inferiori rispetto ad altri generatori, crea ozono ultra-pulito alta concentrazione.

Applicazioni Industriali Critiche

Atomic Layer Deposition (ALD):

• Formazione ossidi gate e materiali dielettrici high-k
• Precursore ossidante con alto potenziale redox
• Generazione point-of-use con decadimento naturale O₃ → O₂

Chemical Vapor Deposition (CVD):

• TEOS/Ozone CVD per deposizione ossidi
• Oxide growth controllato su substrati semiconduttori
• Purezza superiore vs. altri ossidanti

Wet Cleaning Applications:

• Rimozione contaminanti organici, metallici, particellari
• Post-CMP cleaning per superfici high-purity
• Single wafer cleans con precisione controllata
• Immersion applications per batch processing

Photoresist Processing:

• Stripping photoresist con ozono gas
• Surface conditioning pre-deposizione
• Rimozione residui organici post-etch

Vantaggi Ambientali e Economici

Sostenibilità Ambientale:

• Conversione naturale ozono → ossigeno (2O₃ → 3O₂)
• Eliminazione storage, handling, disposal chimici tossici
• Riduzione significativa consumo acqua ultrapura
• Zero formazione NOx con tecnologie MKS

Efficienza Operativa:

• Generazione point-of-use elimina trasporto/storage
• Sistemi closed-loop riducono waste
• Controlli automatici minimizzano intervento operatore
• MTBF esteso riduce downtime

Controllo e Sicurezza Avanzati

Tutti i sistemi includono:

• Monitoring ozono ambientale con allarmi sicurezza
• Controlli closed-loop per concentrazione stabile
• Sistemi fail-safe per protezione equipment
• Interfacce modulari per integrazione facile
• Pannelli status indicator per diagnostica real-time

Supporto Tecnico Globale

MKS fornisce supporto completo con:

• Installazione e commissioning sistemi
• Training operatori specializzato
• Manutenzione preventiva scheduled
• Destruction units catalitiche/termiche opzionali
• Servizio 24/7 worldwide

I generatori ozono MKS Instruments sono la scelta preferita da fab leader mondiali per applicazioni mission-critical che richiedono massima purezza, concentrazione controllata e affidabilità operativa negli ambienti manifatturieri semiconduttori più avanzati.