MLA300

Maskless aligner per la produzione in serie

Il MLA300 è la versione per la  produzione industriale del maskless aligner, che è già diventato uno standard nelle applicazioni di Ricerca e Sviluppo, per la prototipazione rapida e produzione a medio-basso volume. L’MLA300 raggiunge elevate risoluzioni di linee e spazi da 2 µm all’elevata produttività e all’elevata disponibilità prevista in produzione. È completamente automatizzato con robot per il carico e scarico dei wafer, il software è stato appositamente progettato per l’ambiente di produzione per offrire un flusso di lavoro automatizzato e semplificato.

Allo stesso tempo, presenta tutti i vantaggi associati con la litografia maskless: Spese generali e spese associate con l’approvvigionamento di maschere, e la loro manipolazione, pulizia, e lo stoccaggio vengono ridotte a zero.

La tecnologia Maskless Aligner utilizza un modulatore di luce spaziale che agisce essenzialmente come una maschera dinamica. Offre la flessibilità di strutturare  substrati molto impegnativi, consentendo correzioni per ogni stampo (ad es. per reagire a distorsioni o variazioni di processo), e utilizza un autofocus in tempo reale per seguire l’ordito del substrato o ondulazioni. I moduli di esposizione completamente integrati sono disponibili per una selezione di lunghezze d’onda (375 nm o 405 nm) e con diverse opzioni di risoluzione. I moduli di esposizione multipli possono essere montati nell’ MLA300 per una velocità ancora più elevata.

L’MLA300 eccelle nelle aree applicative come la produzione di sensori, sensori IC, dispositivi MEMS, componenti elettronici discreti, circuiti integrati analogici e digitali, ASIC, elettronica di potenza, display OLED, nonché per applicazioni di advanced packaging.

Caratteristiche principali

  • Area massima di esposizione: 300 mm x 300 mm
  • Dimensione minima delle strutture: 1,5 μm
  • Linee e spazi minimi: 2 µm
  • Velocità massima di scrittura: 5000 mm2/min (a 405 nm, con un modulo)
  • Autofocus in tempo reale
  • Telecamera panoramica per un rapido allineamento e ispezione
  • Allineamento anteriore e posteriore
  • Camera ambientale a temperatura controllata
  • Lunghezze d’onda di esposizione: 405 nm e /o 375 nm

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