MPO 100

STRUMENTO MULTI-UTENTE PER LITOGRAFIA 3D E MICROSTAMPA 3D

La MPO 100 è uno strumento multiutente per litografia 3D e microstampa 3D di microstrutture con applicazioni nell’ottica, fotonica, meccanica e ingegneria biomedica. La piattaforma modulare di stampa 3D MPO 100 offre un’alta precisione su richiesta per la litografia 3D così come un alto volume di stampa per la microstampa 3D e permette la produzione di microstrutture funzionali complesse con un’alta produttività in una singola fase del processo.

L’MPO 100 include un potente sistema laser a femtosecondi che opera ad una lunghezza d’onda di 522 nm, consentendo così una lavorazione efficiente e ad alta velocità della maggior parte dei sistemi polimerici disponibili in commercio. Tra questi c’è la collaudata classe di polimeri ibridi inorganici-organici nota come ORMOCER®. Questa classe di materiali fornisce proprietà ottiche, meccaniche e chimiche uniche. Inoltre, poiché molti fotoresist mostrano un’alta sensibilità alla lunghezza d’onda TPP di 522 nm, l’MPO 100 è uno strumento ideale per

R&S per sviluppare nuovi sistemi di materiali.

1 – 10 – 100 – 1000

Le modalità di scrittura specifiche per l’applicazione consentono di passare rapidamente e facilmente dalla litografia 3D alla microstampa 3D. Le macrostrutture con un’altezza di oltre 1 cm possono essere fabbricate così come le micro strutture con una qualità di superficie superiore che mostra una rugosità fino a 10 nm. La dimensione minima ottenibile fino a 100 nm e la velocità di scansione accessibile di oltre 1000 mm/s offrono all’utente un vantaggio completo per processi di fabbricazione 3D nano, micro e macro su misura.

Dati Tecnici

Performance

Print height (max.) ≥ 1 cm
Roughness (min.) ≤ 10 nm
Minimum feature size ≤ 100 nm (lateral) and ≤ 300 nm (vertical)
Scan speed (max.) 10 m/s divided by magnification (e.g. 1000 mm/s for 10x)
Materials (additive or subtractive) ORMOCER®s, SU-8, customer-specific resins, AZ-series,
ma-P 1200, metal layers (e.g. Ag, Au, Cr, …)
Structuring modes Scan-and-Step with advanced stitching algorithms
Stage only for stitching-free fabrication
Synchronized Infinite Field-of-View (IFoV) for stitching-free fabrication

System features

Laser λ = (522 ± 3) nm    τpulse ≤ 250 fs    frep = (63 ± 0.6) MHz
Pmean ≥ 600 mW    Epulse > 10 nJ
Laser power at focusing optics (max.) ≥ 200 mW
Focusing optics Numerical aperture: 0.2 (air) to 1.4 (immersion)
Magnification: 5x to 100x
Field-of-View (FoV): up to 2 mm
Print area 100 mm x 100 mm
Autofocus Optical detection of interfaces, reproducibility down to ± 50 nm
Substrate Size: up to 6-inch (4-inch process area), Thickness: up to 4 cm
Software LithoSoft3D (code generation software)    LithoStream (system control software)
Scanning system Synchronized 5 axes system of XYZ stage and galvoscanner
XYZ stage:   Electromagnetic direct drive, air bearing
Accuracy: ± 0.2 μm per axis (over full travel range)
Repeatability: down to ± 0.05 μm per axis (over full travel range)
Positioning stability: ≥ 5 nm
Temperature controlled flow box Control down to ± 0.1°, ISO Class 4 cleanroom environment

System dimensions (TPP unit)

Footprint 1300 mm × 1100 mm × 1950 mm
Weight < 1000 kg

Installation requirements

Electrical 115/230 V, 50/60 Hz, 16 A
Optimum lab conditions Temperature: 21 °C ± 1 °C    Humidity: 40 – 80 % non-condensing
Compressed air 6 – 8 bar, stability ± 0.5 bar
Room lighting Yellow light

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