Il primo sistema ibrido di nanolitografia mix&match
Il controllo rapido e preciso di una punta termica in nanoscala offre molte possibilità uniche per la nanofabbricazione e consente innovazioni difficilmente realizzabili.
Il Nanofrazor Explore funziona con la massima velocità, precisione e affidabilità. La tecnologia alla base del sistema è il risultato di oltre 20 anni di intensa ricerca e sviluppo che ha avuto inizio presso IBM Research di Zurigo ed è stato esteso presso Swisslitho e Heidelberg Instruments.
Il Nanofrazor Explore è dotato del software più avanzato, per controllare i cantilever riscaldabili Nanofrazor nel miglior modo possibile, per la scrittura e l’imaging. Recentemente, l’Explore ha ricevuto un’estensione di patterning e scrittura con laser integrato per velocizzare la modellazione di strutture più grossolane. Nano- e micro caratteristiche possono ora essere facilmente e rapidamente scritte nello stesso strato del resist utilizzando la stessa piattaforma software in una singola fase di fabbricazione.
Caratteristiche principali
- Scrittura diretta della punta riscaldata con risoluzione inferiore a 15 nm
- Sublimazione laser diretta con risoluzione inferiore a 1 µm
- Imaging topografico ad alta velocità AFM in situ
- Dimensione del campione fino a 100 x 100 mm2
- Litografia closed loop
- Modellazione in scala di grigi con risoluzione senza precedenti
e precisione inferiore a 2 nm - Overlay e stitching senza marker utilizzando l’AFM in situ
per un allineamento preciso - Isolamento acustico e vibrazionale top class
- Nessuna camera pulita o ambiente di laboratorio speciale richiesto
- Consente numerose possibilità uniche che vanno oltre nanolitografia convenzionale
- Imminente: Multi-tip patterning e modulo di imaging