Per il controllo dei processi in linea
Lo strumento più potente disponibile per il monitoraggio della deposizione di film sottili.
Misura il rate di deposizione, lo spessore del film, le costanti ottiche (n e k) e l’uniformità dei semiconduttori e degli strati dielettrici in tempo reale con il sistema di riflettanza spettrale F30
MBE e MOCVD: è possibile misurare film lisci e traslucidi o leggermente assorbenti. Ciò include praticamente qualsiasi materiale semiconduttore, da AIGaN a GaInAsP.
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Misurazioni dello spessore a singolo punto