FALCON RIE+

Il Reattore Plasma di Nuova Generazione per Materiali 2D

Plasma Falcon RIE+ Gambetti


Tecnologia Plasma Avanzata per Ricerca e Industria

Il FALCON RIE+ rappresenta l’ultima frontiera dei reattori al plasma sviluppati da Gambetti Kenologia. Questo sistema innovativo è stato progettato per rispondere alle crescenti esigenze della ricerca moderna sui materiali bidimensionali e alle applicazioni industriali più sofisticate.

Doppia Modalità Operativa: Massima Versatilità

Modalità Anisotropica

  • Polarizzazione porta campioni per attacco direzionale
  • Ideale per processi che richiedono alta precisione geometrica
  • Controllo ottimale della verticalità delle pareti

Modalità Isotropica

  • Polarizzazione elettrodo superiore per attacco uniforme
  • Perfetta per pulizia e attivazione superficiale
  • Trattamenti delicati su materiali sensibili

Specifiche Tecniche di Eccellenza

Camera di Processo

  • Diametro massimo campioni: 8 pollici
  • Elettrodo inferiore: 200 mm di diametro
  • Sistema di vuoto: Pompa turbomolecolare ad alte prestazioni
  • Valvola gate: 3 posizioni per controllo pressione ottimale

Generatore RF Avanzato

  • Frequenza: 15,56 MHz
  • Potenza: Da <10W fino a 200W
  • Step minimo: 1W per controllo ultra-preciso
  • Densità di potenza: Basso valore W/cm² per materiali delicati

Applicazioni Specializzate

Ricerca su Materiali 2D e Grafene

Il FALCON RIE+ è stato specificamente ottimizzato per:

  • Etching delicato di grafene monostrato
  • Preparazione substrati per dispositivi 2D
  • Controllo spessore a livello atomico
  • Modellazione senza reticolazione di photoresist PMMA

Applicazioni Tradizionali RIE

  • Attacco su silicio e derivati
  • Lavorazione nitruro di silicio
  • Processi su materiali semiconduttori
  • Pulizia e attivazione superficiale

Sistema Gas Completo

Il sistema supporta una gamma completa di gas di processo:

  • N₂ (Azoto): Per processi inerti e pulizia
  • Ar (Argon): Sputtering fisico e attivazione
  • O₂ (Ossigeno): Rimozione organici e ash
  • SF₆ (Esafluoruro di zolfo): Etching silicio
  • CF₄ (Tetrafluorometano): Etching ossidi e nitruri

Vantaggi Competitivi

Controllo di Precisione

  • Flusso gas lineare dall’alto verso il basso
  • Uniformità processo garantita
  • Ripetibilità eccellente

Flessibilità Operativa

  • Commutazione rapida tra modalità operative
  • Range pressioni esteso
  • Adattabilità a diverse applicazioni

Affidabilità Industriale

  • Componenti di qualità superiore
  • Manutenzione semplificata
  • Supporto tecnico dedicato

Perché Scegliere FALCON RIE+

Il FALCON RIE+ non è solo un reattore plasma, ma una soluzione tecnologica completa per laboratori di ricerca e centri di sviluppo che lavorano con:

  • Materiali bidimensionali (grafene, MoS₂, BN)
  • Nanotecnologie avanzate
  • Dispositivi elettronici di nuova generazione
  • Applicazioni fotovoltaiche innovative

Supporto Tecnico e Assistenza

Gambetti Kenologia offre:

  • Installazione chiavi in mano
  • Formazione operatori
  • Assistenza tecnica specializzata
  • Sviluppo processi personalizzati

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Contatta i nostri esperti per scoprire come il FALCON RIE+ può accelerare la tua ricerca e ottimizzare i tuoi processi produttivi.

Gambetti Kenologia – Leaders nell’innovazione plasma dal 1985.


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