Le Sorgenti Ioniche Gridded RFICP (Radio Frequency Inductively Coupled Plasma) rappresentano l’innovazione più avanzata di Kaufman & Robinson nel campo delle sorgenti ioniche RF. Queste sorgenti gridded incorporano la tecnologia più innovativa disponibile, combinando plasma RF senza filamenti con ottica ionica self-aligned per prestazioni superiori in applicazioni critiche.
Tecnologia RF Filament-less Avanzata
Principio di Funzionamento RF
- Generazione di plasma ad alta densità tramite accoppiamento induttivo RF
- Eliminazione completa dei filamenti nella camera di scarica plasma
- Controllo preciso di forma del fascio, densità di corrente ed energia ionica
- Ideale per scariche di gas reattivi e processi di lunga durata
Sistema OptiBeam™ Self-Aligned
- Griglie ioniche self-aligned brevettate che non richiedono procedure di allineamento
- Ripetibilità del fascio e durata estesa delle griglie
- Corrente ionica massimizzata con ridotti tempi di manutenzione
- Miglioramento significativo dell’uptime del sistema
Specifiche Tecniche RF Avanzate
Generazione Plasma RF Efficiente
- Accoppiamento induttivo RF per ionizzazione efficiente
- Compatibilità ottimale con gas reattivi (O₂, N₂, idrocarburi)
- Operazione stabile durante processi prolungati
- Controllo specifico di energia, reattività chimica, densità di corrente e traiettoria
Controllo Preciso del Fascio
- Range energetico ionico: 100-1200 eV (alcuni modelli fino a 1500 eV)
- Controllo indipendente di energia e corrente ionica
- Ottica ionica specifica per applicazioni: confinamento, massima dispersione, uniformità ottimizzata
- Forma del fascio definita e controllata per ogni processo
Gamma Completa Prodotti RFICP
RFICP40 – Compattezza ed Economicità
- La più piccola e conveniente sorgente RF gridded
- Range energetico: 100-1200 eV
- Corrente ionica: fino a 120mA
- Ideale per piattaforme da vuoto più piccole e applicazioni R&D
- Accesso alla tecnologia filament-less per processi con gas reattivi
RFICP100 – Prestazioni Compatte
- Sorgente gridded compatta con output impressionante
- Diametro sorgente: 19cm, montaggio su flangia CF 10″
- Range energetico: 100-1200 eV
- Corrente ionica: oltre 400mA
- Rapporto prestazioni/dimensioni eccezionale per piattaforme piccole-medie
RFICP140 – Robustezza Industriale
- Sorgente gridded robusta per applicazioni industriali
- Range energetico: 100-1200 eV
- Corrente ionica: oltre 600mA
- Ottimizzata per deposizione sputter, deposizione assistita ed etching ionico
- Configurazioni ottiche multiple per diverse applicazioni
RFICP220 – Potenza Elevata
- Sorgente gridded potente per applicazioni demanding
- Range energetico: 100-1500 eV
- Corrente ionica: oltre 200mA
- Versatilità in deposizione sputter, deposizione assistita ed etching
- Ottica ionica configurabile per confinamento o dispersione massima
RFICP380 – Massima Potenza
- La più potente sorgente gridded offerta da KRI
- Specificatamente progettata per applicazioni 300mm
- Uniformità ottimizzata per substrati di grande formato
- Prestazioni superiori per produzione industriale ad alto volume
Applicazioni Industriali Specializzate
Deposizione Assistita da Fascio Ionico (IBAD)
- IBAD in evaporazione termica e a fascio elettronico
- IBAD in sputtering magnetron per controllo proprietà film
- Ingegneria di film e superfici con precisione nanometrica
- Controllo di densificazione, trasmissione ottica, uniformità dello spessore
Processi di Pre-pulizia Avanzata
- Pre-pulizia in-situ per sputtering ed evaporazione
- Preparazione superficiale critica per adesione migliorata
- Rimozione di contaminanti con controllo preciso dell’energia
- Ottimizzazione interfacce per dispositivi ad alte prestazioni
Deposizione Sputter a Fascio Ionico
- Confinamento del fascio al target di sputtering con ottica dedicata
- Controllo preciso del processo di sputtering per film critici
- Produzione di strutture multistrato con precisione atomica
- Applicazioni in dispositivi ottici, fotonici e magnetici
Etching Ionico di Precisione
- Etching con uniformità ottimizzata tramite ottica specifica
- Controllo di profondità critica e pareti verticali
- Preservazione di interfacce sensibili
- Processi di microfabbricazione avanzata
Settori di Applicazione Avanzata
Industrie High-Tech
- Fabbricazione di dispositivi ottici e fotonici di precisione
- Produzione di dispositivi magnetici e microelettronici
- Semiconduttori e superconduttori
- Reticoli laser e dispositivi LED/OLED avanzati
Ricerca e Sviluppo
- Laboratori di ricerca materiali avanzati
- Sviluppo processi per nuove tecnologie
- Caratterizzazione e ottimizzazione di film sottili
- Ingegneria di superficie a livello atomico
Vantaggi Competitivi Esclusivi
Tecnologia Filament-free
- Eliminazione problemi legati a filamenti in gas reattivi
- Maggiore stabilità durante processi prolungati
- Riduzione drastica della manutenzione
- Affidabilità superiore in ambienti corrosivi
Controllo di Processo Avanzato
- Controllo indipendente di tutti i parametri del fascio
- Ottica ionica intercambiabile per diverse applicazioni
- Ripetibilità di processo eccellente
- Flessibilità operativa per ottimizzazione continua
Pacchetto Completo Integrato
- Sorgente RFICP con ottica ionica specifica per applicazione
- Sorgente elettronica neutralizzatrice
- Controller alimentatore e controller flusso di massa
- Passaggi da vuoto e cavi completi per installazione
Facilità di Integrazione
- Retrofit semplice in sistemi esistenti
- Integrazione diretta in nuovi sistemi OEM
- Supporto tecnico specializzato per configurazione ottimale
- Documentazione completa e training disponibile
Grassi Fluorurati