Le Sorgenti Ioniche Gridded RFICP (Radio Frequency Inductively Coupled Plasma) rappresentano l’innovazione più avanzata di Kaufman & Robinson nel campo delle sorgenti ioniche RF. Queste sorgenti gridded incorporano la tecnologia più innovativa disponibile, combinando plasma RF senza filamenti con ottica ionica self-aligned per prestazioni superiori in applicazioni critiche.
Tecnologia RF Filament-less Avanzata
Principio di Funzionamento RF
Generazione di plasma ad alta densità tramite accoppiamento induttivo RF
Eliminazione completa dei filamenti nella camera di scarica plasma
Controllo preciso di forma del fascio, densità di corrente ed energia ionica
Ideale per scariche di gas reattivi e processi di lunga durata
Sistema OptiBeam™ Self-Aligned
Griglie ioniche self-aligned brevettate che non richiedono procedure di allineamento
Ripetibilità del fascio e durata estesa delle griglie
Corrente ionica massimizzata con ridotti tempi di manutenzione
Miglioramento significativo dell’uptime del sistema
Specifiche Tecniche RF Avanzate
Generazione Plasma RF Efficiente
Accoppiamento induttivo RF per ionizzazione efficiente
Compatibilità ottimale con gas reattivi (O₂, N₂, idrocarburi)
Operazione stabile durante processi prolungati
Controllo specifico di energia, reattività chimica, densità di corrente e traiettoria
Controllo Preciso del Fascio
Range energetico ionico: 100-1200 eV (alcuni modelli fino a 1500 eV)
Controllo indipendente di energia e corrente ionica
Ottica ionica specifica per applicazioni: confinamento, massima dispersione, uniformità ottimizzata
Forma del fascio definita e controllata per ogni processo
Gamma Completa Prodotti RFICP
RFICP40 – Compattezza ed Economicità
La più piccola e conveniente sorgente RF gridded
Range energetico: 100-1200 eV
Corrente ionica: fino a 120mA
Ideale per piattaforme da vuoto più piccole e applicazioni R&D
Accesso alla tecnologia filament-less per processi con gas reattivi
RFICP100 – Prestazioni Compatte
Sorgente gridded compatta con output impressionante
Diametro sorgente: 19cm, montaggio su flangia CF 10″
Range energetico: 100-1200 eV
Corrente ionica: oltre 400mA
Rapporto prestazioni/dimensioni eccezionale per piattaforme piccole-medie
RFICP140 – Robustezza Industriale
Sorgente gridded robusta per applicazioni industriali
Range energetico: 100-1200 eV
Corrente ionica: oltre 600mA
Ottimizzata per deposizione sputter, deposizione assistita ed etching ionico
Configurazioni ottiche multiple per diverse applicazioni
RFICP220 – Potenza Elevata
Sorgente gridded potente per applicazioni demanding
Range energetico: 100-1500 eV
Corrente ionica: oltre 200mA
Versatilità in deposizione sputter, deposizione assistita ed etching
Ottica ionica configurabile per confinamento o dispersione massima
RFICP380 – Massima Potenza
La più potente sorgente gridded offerta da KRI
Specificatamente progettata per applicazioni 300mm
Uniformità ottimizzata per substrati di grande formato
Prestazioni superiori per produzione industriale ad alto volume
Applicazioni Industriali Specializzate
Deposizione Assistita da Fascio Ionico (IBAD)
IBAD in evaporazione termica e a fascio elettronico
IBAD in sputtering magnetron per controllo proprietà film
Ingegneria di film e superfici con precisione nanometrica
Controllo di densificazione, trasmissione ottica, uniformità dello spessore
Processi di Pre-pulizia Avanzata
Pre-pulizia in-situ per sputtering ed evaporazione
Preparazione superficiale critica per adesione migliorata
Rimozione di contaminanti con controllo preciso dell’energia
Ottimizzazione interfacce per dispositivi ad alte prestazioni
Deposizione Sputter a Fascio Ionico
Confinamento del fascio al target di sputtering con ottica dedicata
Controllo preciso del processo di sputtering per film critici
Produzione di strutture multistrato con precisione atomica
Applicazioni in dispositivi ottici, fotonici e magnetici
Etching Ionico di Precisione
Etching con uniformità ottimizzata tramite ottica specifica
Controllo di profondità critica e pareti verticali
Preservazione di interfacce sensibili
Processi di microfabbricazione avanzata
Settori di Applicazione Avanzata
Industrie High-Tech
Fabbricazione di dispositivi ottici e fotonici di precisione
Produzione di dispositivi magnetici e microelettronici
Semiconduttori e superconduttori
Reticoli laser e dispositivi LED/OLED avanzati
Ricerca e Sviluppo
Laboratori di ricerca materiali avanzati
Sviluppo processi per nuove tecnologie
Caratterizzazione e ottimizzazione di film sottili
Ingegneria di superficie a livello atomico
Vantaggi Competitivi Esclusivi
Tecnologia Filament-free
Eliminazione problemi legati a filamenti in gas reattivi
Maggiore stabilità durante processi prolungati
Riduzione drastica della manutenzione
Affidabilità superiore in ambienti corrosivi
Controllo di Processo Avanzato
Controllo indipendente di tutti i parametri del fascio
Ottica ionica intercambiabile per diverse applicazioni
Ripetibilità di processo eccellente
Flessibilità operativa per ottimizzazione continua
Pacchetto Completo Integrato
Sorgente RFICP con ottica ionica specifica per applicazione
Sorgente elettronica neutralizzatrice
Controller alimentatore e controller flusso di massa
Passaggi da vuoto e cavi completi per installazione
Facilità di Integrazione
Retrofit semplice in sistemi esistenti
Integrazione diretta in nuovi sistemi OEM
Supporto tecnico specializzato per configurazione ottimale
Grassi Fluorurati