SISTEMA PLASMA A BASSA PRESSIONE V55-G PINK

Il sistema V55-G rappresenta un significativo upgrade in termini di capacità di trattamento e controllo processo. Con doppio ingresso gas e camera ampliata, è ideale per produzioni industriali complesse.

CARATTERISTICHE TECNICHE:

• Configurazione: Cabinet 19″ alta capacità
• Dimensioni camera: 400 x 460 x 340 mm
• Potenza microonde: 100-1,200 W variabile
• Ingressi gas: 2 ingressi indipendenti
• Alimentazione: 230/400 V, 50/60 Hz
• Assorbimento: 2.2 kVA (esclusa pompa)
• Dimensioni esterne: 670 x 900 x 1,850 mm

APPLICAZIONI:

• Processi multi-gas complessi
• Produzione industriale su larga scala
• Trattamenti superfici avanzati
• Modificazioni chimiche controllate
• Processi plasma sequenziali

VANTAGGI:

• Doppio controllo gas indipendente
• Camera extra-large
• Potenza elevata controllabile
• Processi multi-step integrati
• Massima flessibilità operativa