Sistema ALD FlexAL

Descrizione

FlexAL fornisce diverse soluzioni per la deposizione di strati ultra sottili ALD, oltre alla possibilità ALE per l’etching di monolayer atomici.  Per queste tecniche vantiamo  diversi brevetti internazionali.
I sistemi possono essere usati sia in ambito della ricerca e sviluppo che della produzione industriale.

La possibilità dell’ ALD termico e del plasma remoto, rendono FlexAL  una piattaforma molto versatile; offrendo  una ampia capacità nella progettazione di strutture e dispositivi su nanoscala.
La combinazione di queste due tecniche in un unico sistema ALD, sono la chiave per un miglior sviluppo di processi nell’ambito delle nanotecnologie e dei nanomateriali.

Supporto di processo e applicativo

Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.