Sistema ALD FlexAL

Il FlexAl è un sistema di deposizione ALD  che offre un’ampia gamma di processi ALD ad alta qualità sia al plasma che termici, con la massima flessibilità in termini di numero di precursori, gas di processo e configurazione hardware, tutto all’interno di un’unica camera di processo.

• ALD al Plasma e termico in un’unica camera di deposizione.
• Possibilità di polarizzare gli elettrodi con radiofrequenza per maggiore controllo delle proprietà del film
• Caricamento cassette – cassette (opzionale)
• Massima flessibilità nella scelta di precursori, gas di processo, caratteristiche e opzioni hardware
• Ottimizzato per ottenere substrati di alta qualità
• I rivestimenti rimovibili consentono una facile manutenzione della camera
• Bassa temperatura per consentire la deposizione di alta qualità su superfici sensibili alla temperatura

CARATTERISTICHE

• Presenza di porte/finestre sulla camera per l’integrazione di apparecchiature di analisi in situ, ad esempio ellissometria
• Loadlock per il caricamento di substrati fino a 200 mm
• Clusterizzabile con moduli di processo aggiuntivi
• Procedura di scambio dei precursori completamente illustrata con checklist
• Interfaccia per clean room per l’installazione a parete (opzionale)
• Generatore di ozono disponibile per l’integrazione
• Ampia gamma di opzioni per gli elettrodi: elettrodi a massa e elettrodi polarizzati
• Pompa turbomolecolare disponibile per nitruri e metalli sensibili all’umidità
• Opzione di polarizzazione RF dell’elettrodo per il miglioramento delle proprietà del film come conducibilità, cristallinità e controllo delle sollecitazioni.

APPLICAZIONI

• Nitruri superconduttori per dispositivi quantistici (es. TiN, NbN)
• Pretrattamento e passivazione di HEMT GaN
• Ossidi di gate ad alto coefficiente k di alta qualità per la passivazione del grafene (ad es. ossido di titanio, ossido di silicio, ossido di gallio)
• ALD di dicalcogenuri metallici di transizione 2D (TMDC)
• Strati di passivazione senza pinhole per OLED e polimeri
• Passivazione di celle solari in silicio cristallino
• Barriere contro l’umidità e passivazione di substrati sensibili
• Deposizioni altamente conformi per dispositivi microfluidici
• Nitruri superconduttori per dispositivi quantistici (es. TiN, NbN)