Descrizione
FlexAL fornisce diverse soluzioni per la deposizione di strati ultra sottili ALD, oltre alla possibilità ALE per l’etching di monolayer atomici. Per queste tecniche vantiamo diversi brevetti internazionali.
I sistemi possono essere usati sia in ambito della ricerca e sviluppo che della produzione industriale.
La possibilità dell’ ALD termico e del plasma remoto, rendono FlexAL una piattaforma molto versatile; offrendo una ampia capacità nella progettazione di strutture e dispositivi su nanoscala.
La combinazione di queste due tecniche in un unico sistema ALD, sono la chiave per un miglior sviluppo di processi nell’ambito delle nanotecnologie e dei nanomateriali.
Supporto di processo e applicativo
Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.