Standard di Contaminazione per Calibrazione Strumenti di Controllo Qualità
La calibrazione degli strumenti di rilevamento particelle è fondamentale per il controllo qualità nell’industria dei semiconduttori. I nostri standard di contaminazione rappresentano la soluzione completa per caratterizzare le particelle prima che esse caratterizzino i vostri prodotti.
Gamma Completa di Standard di Contaminazione
La nostra linea completa di standard di contaminazione copre ogni esigenza di calibrazione per strumenti di ispezione particelle, dal controllo superficiale ai reticoli, garantendo tracciabilità NIST e precisione massima.
Standard di Contaminazione Assoluti (ACS)
Gli Standard di Contaminazione Assoluti sono progettati per la calibrazione di strumenti che dimensionano e rilevano particelle per il controllo contaminazione su superfici di wafer di silicio nudi.
Caratteristiche Tecniche ACS
Costruzione e Materiali
Sfere di polistirene lattice (PSL) altamente sferiche
Proprietà ottiche ben caratterizzate
Distribuzione dimensionale monodispersa molto ristretta
Monitoraggio strumenti di misurazione e conteggio particelle
Controllo qualità processi produttivi semiconduttori
Standard di Contaminazione Bordi (ECS)
Gli Standard di Contaminazione Bordi sono wafer di silicio nudi con sfere lattice microscopiche depositate sui bordi del wafer, progettati per la calibrazione standard dimensioni particelle di strumenti che rilevano particelle sui bordi dei substrati.
Innovativa Deposizione a Spot ECS
Tecnologia di Deposizione
Deposizione spot precisa di sfere PSL su quattro regioni distinte
Copertura completa: bordi superiori e inferiori, smussi, apice del wafer
Ispezioni complete: topside e backside per sensibilità totale dello strumento
Specifiche Tecniche ECS
Wafer disponibili: 200mm e 300mm di diametro
Posizioni deposizione: 35°, 145°, 205° e 325° dalla tacca
Dimensioni sfere PSL: 0.5 μm, 1.0 μm, 2.0 μm e 5.0 μm (tutte su un wafer)
Quantità particelle: circa migliaia di sfere PSL per regione
Vantaggi Standard ECS
Calibrazione sensibilità strumenti bordi wafer
Standard dimensioni particelle per metrologia bordi
Gli Standard di Contaminazione Silice sono utilizzati per calibrare strumenti UV e DUV ad alta intensità che dimensionano e rilevano particelle di silice su superfici di wafer di silicio nudi.
Tecnologia Avanzata Particelle Silice
Caratteristiche Uniche SCS
Sfere di silice sferiche con distribuzione dimensionale monodispersa
Resistenza ai danni da prolungata esposizione UV e DUV
Proprietà di calibrazione mantenute nel tempo
Materiale innovativo dove altri possono degradarsi
Specifiche Prodotto SCS
Wafer conformi SEMI: 300mm e 450mm di diametro
Dimensioni sfere silice: da 32 nm a 1.5 micron
Certificato calibrazione con numero approssimativo particelle
Contaminazione di fondo estremamente ridotta
Applicazioni Standard Silice
Calibrazione strumenti UV/DUV ad alta intensità
Monitoraggio particelle silice in processi produttivi
Controllo qualità industria display e semiconduttori
Standard Leopard di Contaminazione (LCS)
Gli Standard Leopard di Contaminazione utilizzano deposizioni spot per calibrare strumenti che rilevano e dimensionano particelle su un range di valori, caratterizzando particelle comuni ai vostri processi.
Sistema Deposizione Multi-Spot LCS
Tecnologia Spot LCS
Deposizioni spot distinte di sfere PSL
Configurazioni: 4, 5 o 6 spot omogenei
Range incrementale: da 0.050 μm a 3 μm
Diametro spot: circa 20 mm
Quantità sfere: circa 5.000 per spot
Vantaggi Analisi Particelle
Calibrazione range multipli dimensioni particelle
Analisi problemi rapida tramite pattern spot
Caratterizzazione processi specifici clienti
Standard Leopard Silice (SLCS)
Gli Standard Leopard Silice combinano la tecnologia a spot con le proprietà uniche delle particelle di silice, offrendo calibrazione per strumenti UV/DUV su range di valori.
Caratteristiche SLCS
Specifiche Tecniche SLCS
Wafer conformi SEMI: 300mm e 450mm
Configurazioni spot: da 2 a 8 spot omogenei
Dimensioni particelle: da 32 nm a 1.5 micron
Diametro spot: circa 20 mm
Quantità particelle: fino a 12.000 per spot
Standard di Contaminazione Reticoli (RCS)
Gli Standard di Contaminazione Reticoli sono progettati per calibrare strumenti che dimensionano e rilevano particelle su superfici di reticoli o pellicole protettive.
Soluzione Completa Reticoli
Opzioni di Deposizione RCS
Deposizione su reticolo o pellicola dopo montaggio
Substrati disponibili: forniti dal cliente, 125x125mm, 152x152mm
Configurazioni: trasparente, cromo, metà trasparente/metà cromo
Deposizioni: fronte/retro, pellicola fronte/retro
Specifiche Avanzate RCS
Dimensioni particelle: da 40 nm a 50 μm
Sfere PSL altamente sferiche
Tracciabilità NIST o opzioni non tracciabili
Deposizioni complete substrato o spot
Applicazioni Reticoli
Calibrazione strumenti ispezione reticoli
Controllo contaminazione pellicole protettive
Monitoraggio qualità processi litografici
Vantaggi dei Nostri Standard di Contaminazione
Qualità e Tracciabilità
Tracciabilità NIST per massima accuratezza
Certificati di calibrazione dettagliati inclusi
Controllo qualità rigoroso in ogni fase produttiva
Materiali caratterizzati con proprietà ottiche note
Versatilità Applicativa
Range completo dimensioni particelle (32 nm – 50 μm)
Formati multipli wafer (100mm – 450mm)
Tecnologie diverse (PSL, silice, deposizioni spot)
Applicazioni specifiche (UV/DUV, bordi, reticoli)
Supporto Tecnico
Consulenza applicativa per implementazione
Configurazioni personalizzate disponibili
Documentazione completa per ogni standard
Assistenza post-vendita specializzata
Settori di Applicazione
Industria Semiconduttori
Controllo contaminazione processi produttivi
Calibrazione strumenti ispezione superficiale
Monitoraggio qualità ambienti puliti
Validazione processi critici
Ricerca e Sviluppo
Laboratori metrologia particelle
Centri ricerca tecnologie avanzate
Sviluppo strumentazione ispezione
Validazione metodi analitici
Produzione Display
Controllo qualità pannelli LCD
Ispezione substrati vetro
Monitoraggio particelle ITO
Calibrazione strumenti UV
Selezione dello Standard Ideale
Per Calibrazione Dimensioni Particelle
ACS: Standard assoluti per calibrazione generale
SCS: Standard silice per strumenti UV/DUV
RCS: Standard specifici per reticoli
Per Analisi Multi-Range
LCS: Leopard standard con sfere PSL
SLCS: Leopard silice per UV/DUV
Per Applicazioni Specializzate
ECS: Standard bordi wafer
RCS: Standard reticoli e pellicole
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Standard di spessore