Standard di contaminazione

Standard di contaminazione assoluto

Gli Standard di contaminazioni assoluti (ACS) sono wafer di silicio nudo con un deposito di sfere di lattice microscopiche sulla superficie. Questi standard sono stati pensati per la calibrazione e la misura delle particelle per strumenti di controllo dei wafer.

Le sfere di lattice (PSL) depositate, accuratamente dimensionate ed altamente sferiche hanno proprietà  ottiche ben caratterizzate ed una distribuzione dimensionale molto stretta. Queste caratteristiche le rendono molto utili per la calibrazione ed il monitoraggio di strumenti per il conteggio di particelle.

VLSI Standard fornisce questi standard con una varietà  di dimensioni delle sfere (con o senza tracciabilità  NIST, opzionale), tipicamente compresa tra 0.060 µm e 4.0 µm.

Gli standard di calibrazione assoluti vengono prodotti con tecniche avanzate in un ambiente estremamente pulito. Sono di conseguenza potenzialmente soggetti a contaminazione. Al fine di preservare e estendere nel tempo l’utilizzo del ACS, lo standard deve essere aperto ed maneggiato esclusivamente in camere pulite.

Gli standard sono disponibili su wafers da 100, 125, 150, 200 e 300 mm. Il range di densità  standard di 6-10 sfere per cm2. Questi campioni non sono ricertificabili.

Standard di contaminazione reticolare

Questi standard (RCS) sono stati creati per la calibrazione di strumenti per il controllo di reticoli o fotomaschere. Lo standard consiste di un reticolo pulito con sfere di lattice depositate sulla sua superficie ed è protetto da una pellicola posta sopra la superficie depositata.

La deposizione può essere effettuata sulla superficie reticolare o sulla superficie della pellicola, dopo il montaggio sul reticolo. Formati: 5×5, 6×6. Misura delle sfere: 0.060um  20.0um. Certificazione NIST (opzionale).

Deposizioni personalizzate: wafer e reticoli

Deposizioni personalizzate di PSL (Polystyrene Latex Spheres, sfere di lattice di polistirene) con tracciabilità  NIST per substrati vari, stacks. ecc. Sono disponibili deposizioni complete o parziali multi-spot sono su wafer, reticoli od altri substrati. Per wafer sino a 300mm, reticoli sino a 6×6 .

Misura delle sfere: 0.060um  20.0um. Sono inoltre disponibili deposizioni personalizzate, con certificazione NIST (opzionale) con densità  su tutto il wafer (o parziale) e multi spot. Il servizio di deposizione VLSI (CDS) è pensato per eseguire la caratterizzazione di strumenti per la rilevazione di contaminazioni superficiali, in funzione del tipo di substrato così come di qualsiasi multistrato presente sui substrati. Questo viene effettuato depositando in modo accurato una determinata misura e distribuzione di sfere di lattice su di un substrato fornito dal cliente. Le sfere sono disponibili in formati con tracciabilità  NIST così come in misure non tracciabili. Nella maggior parte dei casi le particelle possono essere posizionate sia sulla metà  della superficie (lasciando una metà  non depositata) o su tutta la superficie del substrato. Il CDS fornisce un’opportunità  ai clienti di usufruire dei vantaggi di depositare standard di contaminazione delle particelle su substrati di propria scelta. E’ possibile scegliere la densità e le dimensioni delle particelle. E’ particolarmente adatto allo sviluppo di standard con caratteristiche peculiari quali: wafer per semiconduttori modellati, wafer con film vuoto, wafer per testine a film sottile nell’industria della memorizzazione dei dati, hard disk con vari strati, reticoli modellati, pellicole

Wafer di riferimento per particelle superficiali (SPR Surface Particle References)

Questi wafer sono stati creati per monitorare le prestazioni di molti sistemi di ispezione di superficie ed includono una lista di difetti litograficamente definiti, attaccati su un substrato in silicio o biossido di silicio. Ogni SPR possiede quattro quadranti che fanno riferimento alla luce scatterata da uno specifico diametro di sfere di lattice. Questi standard forniscono una analisi nel lungo periodo della stabilità e della linearià  dello strumento e sono disponibili per wafer da 100mm, 125mm, 150mm.

Gli SPR per la luce laser blu vengono misurati utilizzando una lunghezza d’onda di 488nm con scansione ortogonale rispetto alla superficie del wafer. Questo prodotto, al contrario dell’ACS, può essere facilmente pulito e riqualificato.

Link prodotto