
Il sistema deposizione Temescal FC-4400 rappresenta l’apice dell’innovazione tecnologica per foundry enterprise e produzione wafer 200mm. Come sistema flagship della gamma Temescal, l’FC-4400 offre capacità produttive senza precedenti con 30 wafer 150mm o 15 wafer 200mm per ciclo, specificamente ottimizzato per processi lift-off metallization ad alto volume.
Capacità Enterprise: 44″ x 44″ Camera e Wafer 200mm
Dimensioni Camera Record nel Settore
La camera prodotto 44″ x 44″ x 28″ stabilisce nuovi standard:
- Volume utile massimo: Per substrati fino a 200mm con tooling avanzato
- Throughput leader: 30 wafer 150mm o 15 wafer 200mm per ciclo
- Load-lock ottimizzato: Mantiene vuoto sorgente durante scambio substrate
- Uniformità eccellente: ±1.5% su tutta l’area wafer 200mm
Supporto Wafer 200mm – Unico nella Categoria
L’FC-4400 è l’unico sistema Temescal che supporta:
- Wafer 200mm: 15 pezzi per ciclo con uniformità superior
- Tooling 200mm: HULA assembly per lift-off perfetto
- Process scalability: Da R&D a produzione volumi enterprise
- Future ready: Compatibilità substrati next-generation
Tecnologia Dual Cryopump: 35,000 L/sec Capacità Totale
Sistema Pompaggio Rivoluzionario
Il sistema dual cryopump offre prestazioni senza pari:
- Dual CT-400: Due cryopump da 16″ per 35,000 L/sec totali
- Pump-down time: <10 minuti da atmosfera a 10E-7 Torr
- Uptime massimo: Ridondanza pumping per continuità produzione
- Throughput ottimizzato: Cicli rapidi per ROI superiore
Vantaggi Competitivi Dual Cryopump
- Capacità doppia: vs sistemi single-pump tradizionali
- Reliability: Backup automatico in caso manutenzione
- Process consistency: Vuoto stabile durante tutto il ciclo
- Scalability: Pompaggio indipendente camera/sorgente
Lift-Off Metallization: L’Eccellenza per Foundry
Ottimizzazione Processi Lift-Off Enterprise
L’FC-4400 è specificamente progettato per:
- Gate metallization: Precisione sub-nanometrica
- Contact layers: Ohmic e Schottky ad alta qualità
- Interconnect metal: Multi-layer con uniformità eccellente
- Advanced packaging: Bumping e redistribution layers
HULA Assembly per Uniformità Assoluta
Il High Uniformity Lift-off Assembly garantisce:
- Uniformity <±1.5%: Su substrati fino a 200mm
- Shadow masking: Precisione pattern critica
- Angle optimization: 90° incidence per lift-off perfetto
- Multi-pattern: Supporto maschere multiple per processo
Configurazione E-beam Avanzata per Foundry
Sistema Sorgente Ultimate
- Dual PopTop: 2 torrette 6-pocket da 25cc ciascuna
- Source capacity: 12 materiali simultanei + pocket fissa
- E-beam power: 6, 12 o 15kW (Simba2 upgrade)
- Source tray: 25.5″ per massima flessibilità materiali
Controllo Processo Enterprise-Grade
- TemEBeam controller: Sweep, index, gun control avanzato
- Rate monitoring: Feedback real-time per ogni sorgente
- Recipe automation: Fino a 20 step per processo complesso
- Material database: Library estesa per tutti i metalli
H2: Temescal Control System per Foundry
Il controllo TCS enterprise include:
- Factory integration: SECS/GEM compliant per automation
- Multi-user access: Gestione ruoli operatori/supervisori
- Process tracking: Lotto-per-lotto traceability completa
- Predictive maintenance: Algoritmi ML per downtime prevention
Monitoring e Diagnostica Avanzata
- Real-time monitoring: Tutti i parametri processo critici
- Alarm management: Sistema alerting multi-livello
- Data analytics: Trend analysis per ottimizzazione continua
- Remote diagnostics: Supporto tecnico proattivo
ROI Analysis: FC-4400 vs Sistemi Competitivi
Throughput Comparison Enterprise Systems
Parametro
FC-4400 |
Competitor A |
Competitor B |
Competitor C |
Wafer 150mm/ciclo
30 |
20-25 |
22-28 |
18-24 |
Wafer 200mm/ciclo
15 |
8-10 |
12 |
Non supporta |
Pump-down time
<10 min |
15-20 min |
12-18 min |
20-25 min |
Uniformità wafer 200mm
±1.5% |
±3-4% |
±2.5% |
N/A |
Uptime annuale
>98% |
92-95% |
94-96% |
90-93% |
Analisi Costi Enterprise (5 anni)
Voce
FC-4400 |
Sistemi Alternativi |
Saving |
CAPEX
100% |
85-90% |
– |
Throughput/anno
100% |
65-75% |
+35% produzione |
OPEX/wafer
100% |
120-140% |
20-40% saving |
Payback period
14-18 mesi |
24-36 mesi |
40% più rapido |
Opzioni Enterprise e Customization
Sistema Controllo Avanzato
- TCS Enterprise: Interfaccia multi-touch 21″ disponibile
- SECS/GEM compliance: Integrazione MES/ERP foundry
- Data management: Storage locale + cloud analytics
- Simulator avanzato: Training VR per operatori
Upgrade Hardware Premium
- Triple cryopump: Opzione per capacità estrema
- Hot/cold water: Circuiti processo temperatura variabile
- Gas manifold: Controllo fino a 5 gas simultanei
- Ion source cluster: Multi-cleaning station integrata
Installazione Enterprise e Site Requirements
Facility Integration Enterprise
- Clean room: Class 1-1000 compatible
- Through-wall: Design optimized per foundry layout
- Utilities enterprise: 480V, backup power, monitoring
- Footprint: Ottimizzato per fab efficiency
Service e Support Enterprise
- Dedicated FAE: Field Application Engineer assegnato
- 24/7 support: Hotline tecnica per foundry
- Preventive maintenance: Contratti customizzati
- Training certification: Programma multi-livello operatori
Applicazioni Foundry e Market Leadership
Target Applications Enterprise
- Advanced logic: Nodi tecnologici <7nm
- Memory devices: DRAM, NAND flash metallization
- Power semiconductors: Wide bandgap materials
- MEMS/Sensors: Precision metallization patterns
- Advanced packaging: Chiplet interconnection
Market Position e Reference
- Foundry tier-1: Installazioni presso leader mondiali
- Process of record: Per critical metallization steps
- Technology roadmap: Allineato evolution semiconductor
- Innovation partner: Co-development next-gen processes
Supporto Ferrotec Italia per Foundry
Servizi Pre-Vendita Enterprise
- Site assessment: Facility readiness evaluation
- Process transfer: Da lab a produzione supportato
- ROI modeling: Business case development completo
- Project management: Installation turnkey
Post-Vendita Enterprise Support
- Dedicated support: Team tecnico specializzato foundry
- Spare parts management: Inventory ottimizzato uptime
- Process optimization: Continuous improvement program
- Technology roadmap: Upgrade path garantito