Il nuovo sistema di deposizione Temescal UEFC-5700 Auratus, consente di metalizzare fino a 43 wafer da 150, oppure wafer da 200 mm. Questo nuovo evaporatore consente di ottenere uniformità sino ad ora immaginabili su sistemi di deposizione con cannone elettronico.
Il sistema di pompaggio con due pompe criogeniche da 16″ consente di avere cicli di pompaggio molto veloci, infatti in soli 10 minuti è possibile raggiungere dalla pressione atmosferica a 10-7.
Grazie al design particolare della camera, si sono ottenuti benefici nell’ottimizzazione nei processi di Lift-Off, oltre ad basso deposito di materiale sulle pareti del sistema, che consente un abbattimento dei costi, quando di depositano metalli preziosi.