Sistemi di processoCannoni ionici ed elettronici Impianti industriali in vuoto Reattori al plasma Sistemi di attacco e deposizione in vuoto Caratterizzazione superficialeMicroscopia a forza atomica AFM Microscopia elettronica SEM e FIB Preparativa per la microscopia SEM Campioni di Calibrazione Analisi di Superficie Misure di spessore, profili, rugosità, stress, nanoindentazione Strumentazione controllo di processoAlimentatori RF e DC – Generatori di Ozono Analisi emissioni gas di scarico Analisi gas Componentistica da vuoto e fasce riscaldanti Misura e controllo vuoto, pressione e flussi Ricerca delle fughe Prodotti di consumoFluidi, Oli e Grassi per applicazioni speciali Target e materiale da Evaporazione Wafer e cristalli di silicio
