VLSI Standard

Standard di Topografia Superficiale per Calibrazione Microscopi AFM e Interferometrici

VLSI dimensional standard AFM SEM interferometri


Rimanete sempre all’avanguardia nella calibrazione sonde 3D con i nostri Standard di Topografia Superficiale (STS). Questi innovativi standard utilizzano una combinazione di altezza step e pitch per consentire la calibrazione topografica tridimensionale di microscopi interferometrici ottici e microscopi a forza atomica (AFM).

Tecnologia Avanzata Pattern Waffle

Gli Standard di Topografia Superficiale rappresentano l’eccellenza nella calibrazione dimensionale grazie alla loro innovativa tecnologia a pattern waffle in silicio.

Caratteristiche del Pattern Waffle

Il nostro standard dimensionale tracciabile consiste in un die di silicio da 12 mm x 8 mm con un cluster di pitch modellato in uno strato di biossido di silicio. Questa configurazione unica offre:

  • Tre pattern griglia distinti per calibrazione completa
  • Dimensioni ottimali: ogni pattern griglia misura circa 270 μm x 270 μm
  • Array alternato di barre e spazi con pitch estremamente uniforme
  • Precisione bidirezionale nelle direzioni X e Y

Vantaggi del Design Waffle

  • Regolarità topografica eccezionale per misurazioni accurate
  • Area di lavoro completa coperta dallo standard
  • Tecnica produttiva precisa per pattern uniformi
  • Calibrazione tracciabile per strumenti ad alta risoluzione

Modelli Standard Topografia Superficiale

La nostra gamma di standard topografia superficiale offre due configurazioni principali per soddisfare diverse esigenze di calibrazione microscopi AFM e interferometrici.

Standard Topografia Superficiale 2 (STS2)

Il modello STS2 è progettato per applicazioni ad alta risoluzione con pitch fini:

Specifiche Pitch STS2

  • Pitch 1.8 μm: Per calibrazione ultra-fine
  • Pitch 3 μm: Configurazione intermedia
  • Pitch 5 μm: Standard generale

Applicazioni STS2

  • Microscopi AFM ad alta risoluzione
  • Calibrazione linearità scansione fine
  • Caratterizzazione strumenti di precisione
  • Controllo qualità processi nanometrici

Standard Topografia Superficiale 3 (STS3)

Il modello STS3 copre range di pitch più ampi per applicazioni generali:

Specifiche Pitch STS3

  • Pitch 3 μm: Baseline di riferimento
  • Pitch 10 μm: Configurazione media
  • Pitch 20 μm: Standard per range esteso

Applicazioni STS3

  • Microscopi interferometrici ottici
  • Calibrazione topografica generale
  • Strumenti metrologia superficiale
  • Controllo qualità industriale

Configurazioni Altezza Step Disponibili

I nostri standard dimensionali sono disponibili in quattro configurazioni di altezza step per coprire l’intero range di applicazioni topografiche:

Altezze Step Nano-Precise

18 nm – Ultra-Fine

  • Applicazioni: Caratterizzazione superfici ultra-lisce
  • Strumenti: AFM alta risoluzione
  • Settori: Nanotecnologie, ricerca materiali

44 nm – Precisione Standard

  • Applicazioni: Calibrazione routine microscopi
  • Strumenti: AFM e interferometri standard
  • Settori: Semiconduttori, controllo qualità

100 nm – Range Medio

  • Applicazioni: Metrologia superficiale generale
  • Strumenti: Interferometri ottici
  • Settori: Industria manifatturiera, R&D

180 nm – Range Esteso

  • Applicazioni: Calibrazione strumenti range ampio
  • Strumenti: Profilometri, interferometri
  • Settori: Automotive, aerospace

Caratteristiche Tecniche Avanzate

Costruzione e Materiali

Substrato e Rivestimenti

  • Substrato: Silicio di alta qualità
  • Pattern: Biossido di silicio (SiO2)
  • Rivestimento: Platino (eccetto modelli STS2-1000S & STS2-1800S)
  • Dimensioni die: 12 mm x 8 mm

Proprietà Ottiche

  • Riflettività ottimizzata per microscopi interferometrici
  • Contrasto eccellente per imaging AFM
  • Stabilità a lungo termine dei materiali
  • Resistenza all’ossidazione e corrosione

Precisione e Tracciabilità

Standard di Qualità

  • Tracciabilità: Unità SI attraverso NIST
  • Uniformità pitch: Estremamente precisa in X e Y
  • Regolarità pattern: Controllo qualità rigoroso
  • Certificazione: Inclusa con ogni standard

Applicazioni Specifiche per Strumento

Calibrazione Microscopi AFM

I nostri standard per calibrazione AFM offrono prestazioni superiori per:

Calibrazione Dimensionale AFM

  • Pitch X e Y: Verificare accuratezza scansione laterale
  • Altezza Z: Calibrare sensibilità verticale
  • Linearità: Caratterizzare linearità scansione
  • Ripetibilità: Verificare stabilità strumento

Controlli Qualità AFM

  • Deriva termica: Monitoraggio stabilità
  • Rumore: Valutazione prestazioni
  • Risoluzione: Test capacità strumento
  • Accuratezza: Verifica misurazioni

Calibrazione Microscopi Interferometrici

Gli standard per microscopi interferometrici garantiscono:

Calibrazione Ottica

  • Interferometria: Riferimenti di fase precisi
  • Profili superficie: Standard altezza step
  • Risoluzione verticale: Test sensibilità Z
  • Artefatti ottici: Identificazione e correzione

Validazione Prestazioni

  • Ripetibilità: Test stabilità misurazioni
  • Accuratezza: Verifica contro standard tracciabili
  • Range dinamico: Test capacità strumento
  • Velocità: Ottimizzazione parametri scansione

Settori di Applicazione

Industria Semiconduttori

Controllo Qualità Wafer

  • Rugosità superficiale: Monitoraggio processi
  • Uniformità: Verifica deposizioni film
  • Difetti: Caratterizzazione topografica
  • Processi: Validazione etch e deposizione

Ricerca e Sviluppo

Laboratori Nanoscience

  • Nanotecnologie: Caratterizzazione strutture
  • Materiali: Proprietà superficiali
  • Biotecnologie: Superfici funzionalizzate
  • Fisica: Fenomeni superficie

Industria Manifatturiera

Controllo Qualità Superfici

  • Automotive: Finiture superficiali
  • Aerospace: Rivestimenti critici
  • Medicale: Dispositivi impiantabili
  • Ottica: Superfici ottiche precise

Selezione dello Standard Ottimale

Per Range di Pitch

Applicazioni High-Resolution (STS2)

  • Pitch fine: 1.8 – 5 μm
  • AFM: Strumenti alta risoluzione
  • Nanotecnologie: Caratterizzazione nanoscale
  • Ricerca: Applicazioni cutting-edge

Applicazioni General-Purpose (STS3)

  • Pitch ampio: 3 – 20 μm
  • Interferometri: Microscopi ottici
  • Industria: Controllo qualità routine
  • Educazione: Training e dimostrazione

Per Altezza Step

Ultra-Fine (18-44 nm)

  • Superfici lisce: Wafer, ottiche
  • Alta precisione: AFM avanzati
  • Ricerca: Nanometrologia

Standard (100-180 nm)

  • Generale: Maggior parte applicazioni
  • Robustezza: Handling routine
  • Versatilità: Multi-strumento

Vantaggi Competitivi

Tecnologia Proprietaria

  • Pattern waffle: Design innovativo brevettato
  • Uniformità: Precisione produttiva superiore
  • Stabilità: Materiali selezionati
  • Tracciabilità: Certificazione NIST

Supporto Applicativo

  • Consulenza tecnica: Selezione standard ottimale
  • Protocolli calibrazione: Procedure validate
  • Training: Formazione utilizzo
  • Assistenza: Supporto post-vendita

Qualità Garantita

  • Controllo qualità: Test rigorosi
  • Certificazione: Documentazione completa
  • Packaging: Protezione durante trasporto
  • Garanzia: Prestazioni garantite

Procedura di Calibrazione Ottimale

Preparazione Standard

  1. Pulizia: Rimozione contaminanti superficiali
  2. Ambientazione: Stabilizzazione termica
  3. Posizionamento: Allineamento precisione
  4. Verifica: Controllo integrità superficie

Calibrazione Strumento

  1. Pitch X/Y: Verifica accuratezza laterale
  2. Altezza Z: Calibrazione sensibilità verticale
  3. Linearità: Test range scansione
  4. Ripetibilità: Verifica stabilità

Validazione Risultati

  1. Confronto: Con valori certificati
  2. Incertezza: Calcolo errori misurazione
  3. Documentazione: Registrazione calibrazione
  4. Periodicità: Programma ricalibrazioni

Accessori e Servizi

Kit Calibrazione Completi

  • Multiple altezze: Set standard coordinati
  • Documentazione: Procedure dettagliate
  • Software: Utility analisi dati
  • Training: Formazione utilizzo

Servizi Personalizzati

  • Custom pitch: Configurazioni specifiche
  • Altezze speciali: Su richiesta cliente
  • Certificazioni: Estese o specifiche
  • Consulenza: Applicativa specializzata

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