Tecnologia RIE Consolidata per Applicazioni Multi-Materiale
Il PlasmaPro 100 RIE rappresenta la soluzione economica e affidabile di Oxford Instruments per reactive ion etching di alta qualità. Questo sistema utilizza una singola sorgente RF plasma che determina simultaneamente densità e energia ionica, offrendo controllo ottimale per etching anisotropo e isotropo su materiali diversi.
Processo Fisico Ottimizzato
Il reactive ion etching è un processo prevalentemente fisico dove plasma ricco viene creato sopra il wafer e gli ioni accelerati verso la superficie producono etching altamente anisotropo. Il gas entra dalla parte superiore della camera convertendosi in plasma reattivo a bassa pressione, garantendo velocità di incisione elevate e profili controllati.
Vantaggi tecnici distintivi:
- Percorso alta conduttanza uniforme attraverso camera
- Alto flusso gas mantenendo bassa pressione
- Ampia finestra processo per sviluppo applicativo
- Uniformità eccellente su piattaforma 200mm
Versatilità Multi-Materiale Estesa
Il sistema PlasmaPro 100 RIE eccelle nell’incisione ionica reattiva di materiali critici:
Semiconduttori e dielettrici:
- Silicio (Si) per microelettronica e MEMS
- Ossidi di silicio (SiO2) per isolamento
- Nitruri di silicio (Si3N4) per passivazione
Materiali avanzati:
- Metalli (Al, Au, Cr) per interconnessioni
- Superconduttori (NbN, NbTiN) per quantum computing
- Materiali 2D (grafene, h-BN, MoS2) per elettronica avanzata
- Polimeri (polyimide) per packaging flessibile
Controllo Temperatura Criogenico Avanzato
L’elettrodo temperatura controllata opera nell’ampio range -150°C a +400°C con opzioni:
- Raffreddamento azoto liquido per processi criogenici
- Chiller fluido ricircolante per controllo preciso
- Riscaldamento resistivo per alte temperature
Clustering e Modularità Industriale
Clustering avanzato con fino a 4 moduli processo per linee multi-step:
- ALD, ALE per deposizione/etching atomico
- CVD, PECVD per film sottili
- Ion Beam Etch/Deposition per processi direzionali
Load station opzionale per integrazione through-wall e operazione simultanea di multiple camere per throughput massimo.
Distributore Specializzato: Gambetti Kenologia Milano
Gambetti Kenologia Srl, distributore ufficiale con sede a Binasco (Milano), fornisce expertise completo per il PlasmaPro 100 RIE. Con 50 anni di leadership nelle tecnologie plasma, garantisce:
- Consulenza processi per etching multi-materiale ottimizzato
- Installazione certificata con setup personalizzato
- Training RIE avanzato per operatori specializzati
- Assistenza continuativa 24/7 con tecnici qualificati
- Sviluppo ricette customizzate per applicazioni specifiche
- Stock parti ricambio per supporto reattivo locale
Software PTIQ: Controllo Plasma Intelligente
Il software PTIQ integrato garantisce:
- Controllo completo parametri plasma in real-time
- Diagnostica remota per troubleshooting rapido
- Data logging avanzato per analisi processo
- Recipe management per riproducibilità garantita
- End-point detection per controllo precisione
Applicazioni Target e Settori
Ideale per:
- Laboratori universitari ricerca materiali
- Centri R&D quantum e superconduttori
- Produzione MEMS e sensori
- Microelettronica e packaging
- Photonics e optoelettronica
- Materiali 2D e nanotecnologie
Vantaggi Economici e Operativi
- Soluzione economica per etching generale
- Versatilità materiali in singolo sistema
- Manutenzione semplificata design consolidato
- Upgrade modulare con clustering
- ROI elevato per laboratori multi-applicazione
PlasmaPro 100 Cobra ICP