µMLA Maskless Aligner Desktop:

Sistema Litografia Laser da Tavolo per R&D

μMLA maskless laser writer


L’Eccellenza nella Litografia Desktop

Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione più avanzata per litografia laser in ambiente di ricerca e sviluppo. Dotato della tecnologia maskless Heidelberg Instruments, questo sistema di scrittura diretta è lo strumento perfetto per laboratori che richiedono microstrutture precise con massima flessibilità operativa.

Progettato per ricerca e sviluppo in tutti i settori che necessitano di prototipazione rapida e personalizzazione completa, il µMLA supporta campioni da dimensioni millimetriche fino a 6 pollici con versatilità senza precedenti.

Caratteristiche Tecniche Avanzate

Specifiche di Performance

Capacità Dimensionali:

  • Substrati: da 5 mm a 6″ per massima versatilità
  • Risoluzione minima: fino a 0.6 µm per dettagli ultrafini
  • Velocità scrittura: 300 mm²/min a risoluzione 6 µm
  • Messa a fuoco: automatica in tempo reale

Configurazioni Ottiche Multiple

3 Configurazioni Disponibili:

  • Range throughput variabile per diverse esigenze
  • Risoluzione variabile ottimizzabile dinamicamente
  • Commutazione facile tra configurazioni via software
  • Ottimizzazione risoluzione/velocità in tempo reale

Modalità di Esposizione Avanzate

Modulo Raster Scan:

  • Esposizione veloce indipendente dalla complessità design
  • Lunghezze d’onda: 390 nm o 365 nm
  • Throughput elevato per aree estese
  • Uniformità eccellente su grandi superfici

Modulo Vector Scan:

  • Curve continue per contorni lisci
  • Lunghezze d’onda: 405 nm e/o 375 nm
  • Precisione geometrica per applicazioni critiche
  • Guide d’onda ottiche e strutture complesse

Applicazioni Specializzate

Microfluidica

Dispositivi Lab-on-Chip per analisi biologiche, canali micrometrici, valvole e mixer per biotecnologie avanzate.

Micro-Ottica

Guide d’onda, accoppiatori ottici, micro-lenti e reticoli diffrattivi per sistemi fotonici integrati.

Sensori e MEMS

Accelerometri, giroscopi, pressure sensors e attuatori per automotive, consumer electronics e industria.

Scienza dei Materiali

Pattern test, caratterizzazione materiali, studi adesione e ricerca nanomateriali per sviluppo innovativo.

Vantaggi Tecnologici

Flessibilità Operativa

Personalizzazione Completa:

  • Modalità disegno per pattern semplici
  • Allineamento frontale per overlay preciso
  • Software intuitivo per utilizzo immediato
  • Telecamera panoramica per ispezione e allineamento

Efficienza R&D

Prototipazione Rapida:

  • Setup veloce senza maschere fisiche
  • Modifiche design immediate via CAD
  • Iterazioni illimitate per ottimizzazione
  • Costi ridotti per sviluppo prodotti

Precisione Controllata

Controllo Qualità:

  • Autofocus real-time per superfici irregolari
  • Monitoraggio processo continuo
  • Risoluzione variabile per diverse applicazioni
  • Ripetibilità garantita per produzioni serie

Configurazioni di Sistema

Setup Base

Configurazione standard per laboratori R&D con esigenze generali di microfabbricazione e prototipazione.

Setup Avanzato

Doppio modulo raster e vector per versatilità massima e ottimizzazione processo-specifica.

Setup Personalizzato

Configurazioni dedicate per applicazioni specifiche con ottimizzazione parametri operativi.

Settori di Eccellenza

Ricerca Universitaria

Laboratori accademici per educazione, ricerca fondamentale e sviluppo tecnologie innovative.

Biotecnologie

Aziende sviluppo dispositivi medici, diagnostica point-of-care, drug delivery systems.

Elettronica Avanzata

R&D sensori, dispositivi RF, packaging innovativo per next-generation electronics.

Photonics

Sviluppo componenti ottici integrati, telecomunicazioni, laser systems, quantum devices.

Software e Controllo

Interface Utente

Facilità d’Uso:

  • Software intuitivo per operatori non specializzati
  • Import CAD diretto da formati standard
  • Preview design per validazione pre-esposizione
  • Programmazione batch per produzioni ripetitive

Controllo Processo

Monitoraggio Avanzato:

  • Controllo esposizione preciso e ripetibile
  • Gestione substrati multiple size simultanee
  • Data logging per tracciabilità completa
  • Diagnostic tools per troubleshooting

Supporto e Servizi

Training Specializzato

Formazione Completa:

  • Corso operatori per utilizzo ottimale
  • Workshop applicativi per settori specifici
  • Support tecnico per problemi operativi
  • Best practices per risultati superiori

Assistenza Continuativa

Supporto Globale:

  • Manutenzione preventiva programmata
  • Spare parts availability garantita
  • Remote diagnostics per troubleshooting rapido
  • Upgrade tecnologici per future capabilities

Vantaggi Competitivi Heidelberg

Tecnologia Consolidata

Expertise Riconosciuta:

  • Decenni esperienza in litografia maskless
  • Tecnologia proprietaria per performance superiori
  • R&D continua per innovazione costante
  • Standard industriali per affidabilità

Ecosistema Completo

Soluzioni Integrate:

  • Process development support specializzato
  • Materials compatibility testing
  • Application notes per guidance tecnica
  • User community per knowledge sharing

Specifiche Tecniche Complete

Parametri Operativi

Range Operativo:

  • Substrati: 5 mm – 6″ diameter
  • Spessori: fino a 25 mm accommodation
  • Materiali: resist positivi/negativi compatibility
  • Ambiente: standard laboratory conditions

Prestazioni Sistema

Accuracy e Precision:

  • Overlay accuracy: <500 nm typical
  • Uniformità esposizione: ±5% su substrato
  • Stabilità dimensionale: <100 nm drift/hour
  • Throughput: ottimizzato per R&D efficiency

Conclusioni: Leadership nella Litografia Desktop

Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione definitiva per laboratori R&D che richiedono flessibilità massima, precisione controllata e costi operativi ottimizzati nella microfabbricazione.

La combinazione di tecnologia maskless Heidelberg, risoluzione 0.6 µm e velocità 300 mm²/min lo rende essenziale per:

  • Ricerca universitaria con budget limitati
  • Sviluppo prodotti per time-to-market accelerato
  • Prototipazione per validation concepts rapida
  • Small-scale production per applicazioni specializzate

Con µMLA, ricercatori e ingegneri dispongono di uno strumento che elimina i costi maschere, accelera iterazioni design e abilita innovazione attraverso prototipazione immediata e customizzazione illimitata.

L’investimento in µMLA maskless aligner rappresenta una scelta strategica per l’eccellenza nella ricerca e l’accelerazione dell’innovazione tecnologica.

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