Sistema Ion Beam – Ionfab 300

Descrizione

Il sistema Ion Beam Ionfab 300 offre la flessibilità per eseguire l’attacco e/o la deposizione e massimizzare l’utilizzo del sistema.

Le specifiche del sistema possono essere accuratamente focalizzate alle applicazioni, consentendo risultati di processo molto rapidi e ripetibili. I sistemi sono scalabili dalla ricerca e sviluppo  alla produzione batch in unico uno sistema.

La gamma Ion Beam offre funzionalità in diverse modalità quali:

• Ion Beam Etching (IBE)
• Etching con fascio ionico reattivo (RIBE)
• Deposizione con fascio ionico reattivo (RIBD)
• Etching chimico a fascio ionico (CAIBE)
• Ion Beam Sputter Deposition (IBSD)
• Ion Assisted Sputter Deposition (IASD)

Supporto di processo e applicativo

Disponiamo di una vastissima libreria di processi e di un reparto attrezzato con le migliori tecnologie per la caratterizzazione dei film e dei processi, oltre alla possibilità di sviluppare processi ad HOC insieme al cliente.