µMLA Maskless Aligner Desktop

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L’Eccellenza nella Litografia Desktop

Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione più avanzata per litografia laser in ambiente di ricerca e sviluppo. Dotato della tecnologia maskless Heidelberg Instruments, questo sistema di scrittura diretta è lo strumento perfetto per laboratori che richiedono microstrutture precise con massima flessibilità operativa.

Progettato per ricerca e sviluppo in tutti i settori che necessitano di prototipazione rapida e personalizzazione completa, il µMLA supporta campioni da dimensioni millimetriche fino a 6 pollici con versatilità senza precedenti.

Caratteristiche Tecniche Avanzate

Specifiche di Performance

Capacità Dimensionali:

• Substrati: da 5 mm a 6″ per massima versatilità
• Risoluzione minima: fino a 0.6 µm per dettagli ultrafini
• Velocità scrittura: 300 mm²/min a risoluzione 6 µm
• Messa a fuoco: automatica in tempo reale

Configurazioni Ottiche Multiple

3 Configurazioni Disponibili:

• Range throughput variabile per diverse esigenze
• Risoluzione variabile ottimizzabile dinamicamente
• Commutazione facile tra configurazioni via software
• Ottimizzazione risoluzione/velocità in tempo reale

Modalità di Esposizione Avanzate

Modulo Raster Scan:

• Esposizione veloce indipendente dalla complessità design
• Lunghezze d’onda: 390 nm o 365 nm
• Throughput elevato per aree estese
• Uniformità eccellente su grandi superfici

Modulo Vector Scan:

• Curve continue per contorni lisci
• Lunghezze d’onda: 405 nm e/o 375 nm
• Precisione geometrica per applicazioni critiche
• Guide d’onda ottiche e strutture complesse

Applicazioni Specializzate

Microfluidica

Dispositivi Lab-on-Chip per analisi biologiche, canali micrometrici, valvole e mixer per biotecnologie avanzate.

Micro-Ottica

Guide d’onda, accoppiatori ottici, micro-lenti e reticoli diffrattivi per sistemi fotonici integrati.

Sensori e MEMS

Accelerometri, giroscopi, pressure sensors e attuatori per automotive, consumer electronics e industria.

Scienza dei Materiali

Pattern test, caratterizzazione materiali, studi adesione e ricerca nanomateriali per sviluppo innovativo.

Vantaggi Tecnologici

Flessibilità Operativa

Personalizzazione Completa:

• Modalità disegno per pattern semplici
• Allineamento frontale per overlay preciso
• Software intuitivo per utilizzo immediato
• Telecamera panoramica per ispezione e allineamento

Efficienza R&D

Prototipazione Rapida:

• Setup veloce senza maschere fisiche
• Modifiche design immediate via CAD
• Iterazioni illimitate per ottimizzazione
• Costi ridotti per sviluppo prodotti

Precisione Controllata

Controllo Qualità:

• Autofocus real-time per superfici irregolari
• Monitoraggio processo continuo
• Risoluzione variabile per diverse applicazioni
• Ripetibilità garantita per produzioni serie

Configurazioni di Sistema

Setup Base

Configurazione standard per laboratori R&D con esigenze generali di microfabbricazione e prototipazione.

Setup Avanzato

Doppio modulo raster e vector per versatilità massima e ottimizzazione processo-specifica.

Setup Personalizzato

Configurazioni dedicate per applicazioni specifiche con ottimizzazione parametri operativi.

Settori di Eccellenza

Ricerca Universitaria

Laboratori accademici per educazione, ricerca fondamentale e sviluppo tecnologie innovative.

Biotecnologie

Aziende sviluppo dispositivi medici, diagnostica point-of-care, drug delivery systems.

Elettronica Avanzata

R&D sensori, dispositivi RF, packaging innovativo per next-generation electronics.

Photonics

Sviluppo componenti ottici integrati, telecomunicazioni, laser systems, quantum devices.

Software e Controllo

Interface Utente

Facilità d’Uso:

• Software intuitivo per operatori non specializzati
• Import CAD diretto da formati standard
• Preview design per validazione pre-esposizione
• Programmazione batch per produzioni ripetitive

Controllo Processo

Monitoraggio Avanzato:

• Controllo esposizione preciso e ripetibile
• Gestione substrati multiple size simultanee
• Data logging per tracciabilità completa
• Diagnostic tools per troubleshooting

Supporto e Servizi

Training Specializzato

Formazione Completa:

• Corso operatori per utilizzo ottimale
• Workshop applicativi per settori specifici
• Support tecnico per problemi operativi
• Best practices per risultati superiori

Assistenza Continuativa

Supporto Globale:

• Manutenzione preventiva programmata
• Spare parts availability garantita
• Remote diagnostics per troubleshooting rapido
• Upgrade tecnologici per future capabilities

Vantaggi Competitivi Heidelberg

Tecnologia Consolidata

Expertise Riconosciuta:

• Decenni esperienza in litografia maskless
• Tecnologia proprietaria per performance superiori
• R&D continua per innovazione costante
• Standard industriali per affidabilità

Ecosistema Completo

Soluzioni Integrate:

• Process development support specializzato
• Materials compatibility testing
• Application notes per guidance tecnica
• User community per knowledge sharing

Specifiche Tecniche Complete

Parametri Operativi

Range Operativo:

• Substrati: 5 mm – 6″ diameter
• Spessori: fino a 25 mm accommodation
• Materiali: resist positivi/negativi compatibility
• Ambiente: standard laboratory conditions

Prestazioni Sistema

Accuracy e Precision:

• Overlay accuracy: <500 nm typical
• Uniformità esposizione: ±5% su substrato
• Stabilità dimensionale: <100 nm drift/hour
• Throughput: ottimizzato per R&D efficiency

Conclusioni: Leadership nella Litografia Desktop

Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione definitiva per laboratori R&D che richiedono flessibilità massima, precisione controllata e costi operativi ottimizzati nella microfabbricazione.

La combinazione di tecnologia maskless Heidelberg, risoluzione 0.6 µm e velocità 300 mm²/min lo rende essenziale per:

• Ricerca universitaria con budget limitati
• Sviluppo prodotti per time-to-market accelerato
• Prototipazione per validation concepts rapida
• Small-scale production per applicazioni specializzate

Con µMLA, ricercatori e ingegneri dispongono di uno strumento che elimina i costi maschere, accelera iterazioni design e abilita innovazione attraverso prototipazione immediata e customizzazione illimitata.

L’investimento in µMLA maskless aligner rappresenta una scelta strategica per l’eccellenza nella ricerca e l’accelerazione dell’innovazione tecnologica.