Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione più avanzata per litografia laser in ambiente di ricerca e sviluppo. Dotato della tecnologia maskless Heidelberg Instruments, questo sistema di scrittura diretta è lo strumento perfetto per laboratori che richiedono microstrutture precise con massima flessibilità operativa.
Progettato per ricerca e sviluppo in tutti i settori che necessitano di prototipazione rapida e personalizzazione completa, il µMLA supporta campioni da dimensioni millimetriche fino a 6 pollici con versatilità senza precedenti.
Caratteristiche Tecniche Avanzate
Specifiche di Performance
Capacità Dimensionali:
Substrati: da 5 mm a 6″ per massima versatilità
Risoluzione minima: fino a 0.6 µm per dettagli ultrafini
Velocità scrittura: 300 mm²/min a risoluzione 6 µm
Messa a fuoco: automatica in tempo reale
Configurazioni Ottiche Multiple
3 Configurazioni Disponibili:
Range throughput variabile per diverse esigenze
Risoluzione variabile ottimizzabile dinamicamente
Commutazione facile tra configurazioni via software
Ottimizzazione risoluzione/velocità in tempo reale
Modalità di Esposizione Avanzate
Modulo Raster Scan:
Esposizione veloce indipendente dalla complessità design
Lunghezze d’onda: 390 nm o 365 nm
Throughput elevato per aree estese
Uniformità eccellente su grandi superfici
Modulo Vector Scan:
Curve continue per contorni lisci
Lunghezze d’onda: 405 nm e/o 375 nm
Precisione geometrica per applicazioni critiche
Guide d’onda ottiche e strutture complesse
Applicazioni Specializzate
Microfluidica
Dispositivi Lab-on-Chip per analisi biologiche, canali micrometrici, valvole e mixer per biotecnologie avanzate.
Micro-Ottica
Guide d’onda, accoppiatori ottici, micro-lenti e reticoli diffrattivi per sistemi fotonici integrati.
Sensori e MEMS
Accelerometri, giroscopi, pressure sensors e attuatori per automotive, consumer electronics e industria.
Scienza dei Materiali
Pattern test, caratterizzazione materiali, studi adesione e ricerca nanomateriali per sviluppo innovativo.
Vantaggi Tecnologici
Flessibilità Operativa
Personalizzazione Completa:
Modalità disegno per pattern semplici
Allineamento frontale per overlay preciso
Software intuitivo per utilizzo immediato
Telecamera panoramica per ispezione e allineamento
Efficienza R&D
Prototipazione Rapida:
Setup veloce senza maschere fisiche
Modifiche design immediate via CAD
Iterazioni illimitate per ottimizzazione
Costi ridotti per sviluppo prodotti
Precisione Controllata
Controllo Qualità:
Autofocus real-time per superfici irregolari
Monitoraggio processo continuo
Risoluzione variabile per diverse applicazioni
Ripetibilità garantita per produzioni serie
Configurazioni di Sistema
Setup Base
Configurazione standard per laboratori R&D con esigenze generali di microfabbricazione e prototipazione.
Setup Avanzato
Doppio modulo raster e vector per versatilità massima e ottimizzazione processo-specifica.
Setup Personalizzato
Configurazioni dedicate per applicazioni specifiche con ottimizzazione parametri operativi.
Settori di Eccellenza
Ricerca Universitaria
Laboratori accademici per educazione, ricerca fondamentale e sviluppo tecnologie innovative.
Biotecnologie
Aziende sviluppo dispositivi medici, diagnostica point-of-care, drug delivery systems.
Elettronica Avanzata
R&D sensori, dispositivi RF, packaging innovativo per next-generation electronics.
Photonics
Sviluppo componenti ottici integrati, telecomunicazioni, laser systems, quantum devices.
Software e Controllo
Interface Utente
Facilità d’Uso:
Software intuitivo per operatori non specializzati
Import CAD diretto da formati standard
Preview design per validazione pre-esposizione
Programmazione batch per produzioni ripetitive
Controllo Processo
Monitoraggio Avanzato:
Controllo esposizione preciso e ripetibile
Gestione substrati multiple size simultanee
Data logging per tracciabilità completa
Diagnostic tools per troubleshooting
Supporto e Servizi
Training Specializzato
Formazione Completa:
Corso operatori per utilizzo ottimale
Workshop applicativi per settori specifici
Support tecnico per problemi operativi
Best practices per risultati superiori
Assistenza Continuativa
Supporto Globale:
Manutenzione preventiva programmata
Spare parts availability garantita
Remote diagnostics per troubleshooting rapido
Upgrade tecnologici per future capabilities
Vantaggi Competitivi Heidelberg
Tecnologia Consolidata
Expertise Riconosciuta:
Decenni esperienza in litografia maskless
Tecnologia proprietaria per performance superiori
R&D continua per innovazione costante
Standard industriali per affidabilità
Ecosistema Completo
Soluzioni Integrate:
Process development support specializzato
Materials compatibility testing
Application notes per guidance tecnica
User community per knowledge sharing
Specifiche Tecniche Complete
Parametri Operativi
Range Operativo:
Substrati: 5 mm – 6″ diameter
Spessori: fino a 25 mm accommodation
Materiali: resist positivi/negativi compatibility
Ambiente: standard laboratory conditions
Prestazioni Sistema
Accuracy e Precision:
Overlay accuracy: <500 nm typical
Uniformità esposizione: ±5% su substrato
Stabilità dimensionale: <100 nm drift/hour
Throughput: ottimizzato per R&D efficiency
Conclusioni: Leadership nella Litografia Desktop
Il µMLA maskless aligner da tavolo rappresenta la soluzione definitiva per laboratori R&D che richiedono flessibilità massima, precisione controllata e costi operativi ottimizzati nella microfabbricazione.
La combinazione di tecnologia maskless Heidelberg, risoluzione 0.6 µm e velocità 300 mm²/min lo rende essenziale per:
Ricerca universitaria con budget limitati
Sviluppo prodotti per time-to-market accelerato
Prototipazione per validation concepts rapida
Small-scale production per applicazioni specializzate
Con µMLA, ricercatori e ingegneri dispongono di uno strumento che elimina i costi maschere, accelera iterazioni design e abilita innovazione attraverso prototipazione immediata e customizzazione illimitata.
L’investimento in µMLA maskless aligner rappresenta una scelta strategica per l’eccellenza nella ricerca e l’accelerazione dell’innovazione tecnologica.